اخبار

دوغاب پرداخت ویفر CMP یک ماده مایع با فرمول خاص است که در فرآیند CMP تولید نیمه هادی استفاده می شود. از آب، اچ‌کننده‌های شیمیایی، مواد ساینده و سورفکتانت‌ها تشکیل شده است که هم حکاکی شیمیایی و هم پولیش مکانیکی را ممکن می‌سازد.

ساینده های کاربید سیلیکون معمولاً با استفاده از کوارتز و کک نفتی به عنوان مواد اولیه اولیه تولید می شوند. در مرحله آماده سازی، این مواد برای رسیدن به اندازه ذرات مورد نظر قبل از اینکه از نظر شیمیایی با بار کوره تناسب پیدا کنند، تحت پردازش مکانیکی قرار می گیرند.

طی چند سال گذشته، مرحله مرکزی فناوری بسته بندی به تدریج به یک فناوری به ظاهر قدیمی - CMP (صیقل مکانیکی شیمیایی) واگذار شده است. هنگامی که Hybrid Bonding به نقش اصلی نسل جدید بسته‌بندی پیشرفته تبدیل می‌شود، CMP به تدریج از پشت صحنه به کانون توجه می‌رود.

در دنیای همیشه در حال تحول لوازم خانگی و آشپزخانه، یک محصول اخیراً به دلیل نوآوری و کاربرد عملی آن توجه قابل توجهی را به خود جلب کرده است - سطل ترموس کوارتز

محصولات کوارتز به دلیل خلوص زیاد ، مقاومت در دمای بالا و ثبات شیمیایی قوی ، در فرآیند تولید نیمه هادی مورد استفاده قرار می گیرند.

کوره های رشد کریستالی کاربید سیلیکون (SIC) نقش مهمی در تولید ویفرهای SIC با کارایی بالا برای دستگاه های نیمه هادی نسل بعدی دارند. با این حال ، فرایند رشد کریستال های SIC با کیفیت بالا چالش های قابل توجهی را نشان می دهد. از مدیریت شیب های حرارتی شدید گرفته تا کاهش نقص کریستال ، اطمینان از رشد یکنواخت و کنترل هزینه های تولید ، هر مرحله به راه حل های پیشرفته مهندسی نیاز دارد. در این مقاله چالش های فنی کوره های رشد کریستال SIC از دیدگاه های مختلف مورد تجزیه و تحلیل قرار خواهد گرفت.