فناوری و راه حل ها

مطالعات موردی

فناوری لیزر هدایت‌شونده با آب: ماشینکاری ریز سوراخ دقیق برای زیرلایه‌های SiC
01

فناوری لیزر هدایت‌شونده با آب: ماشینکاری ریز سوراخ دقیق برای زیرلایه‌های SiC

کشف کنید که چگونه فناوری لیزر هدایت‌شونده آب VeTek، سوراخ‌های یکنواخت Φ0.15 میلی‌متری را در بسترهای SiC 2 میلی‌متری بدون مخروطی، حداقل HAZ و بازده بالا برای کاربردهای نیمه‌رسانا ایجاد می‌کند.
بیشتر ببینید
محلول پین بالابر توخالی VETEK-AMAT: بستر گرافیتی با خلوص بالا با پوشش CVD SiC
02

محلول پین بالابر توخالی VETEK-AMAT: بستر گرافیتی با خلوص بالا با پوشش CVD SiC

چالش برانگیزترین مسئله فنی برای پین های بالابر توخالی تجهیزات نیمه هادی، پوشش سطح بیرونی نیست، بلکه دستیابی به پوشش پایدار و یکنواخت CVD در دیواره داخلی سازه توخالی است. از کنترل یکنواختی پوشش دیواره داخلی تا تضمین تمیزی سوراخ داخلی، هر مرحله فرآیند مستقیماً بر عملکرد ویفر تأثیر می گذارد. این مقاله چالش‌های اصلی پوشش دیواره داخلی پین بالابر توخالی و مسیرهای فنی کلیدی را تحلیل می‌کند.
بیشتر ببینید
X
ما از کوکی ها استفاده می کنیم تا تجربه مرور بهتری به شما ارائه دهیم، ترافیک سایت را تجزیه و تحلیل کنیم و محتوا را شخصی سازی کنیم. با استفاده از این سایت، شما با استفاده ما از کوکی ها موافقت می کنید. سیاست حفظ حریم خصوصی
رد کردنقبول کنید