خدمات پشتیبانی

VeTek Semiconductor ویفرها و بسترهای تک کریستالی نیترید آلومینیومی (AlN) با کیفیت بالا را برای دستگاه های نیمه هادی با فاصله باند فوق عریض نسل بعدی عرضه می کند. ویفرهای AlN با فاصله باند بسیار گسترده تقریباً 6.2 ولت، هدایت حرارتی فوق العاده، عایق الکتریکی استثنایی، شبکه و انبساط حرارتی عالی با GaN، برای دستگاه های RF پرقدرت، الکترونیک قدرت ولتاژ بالا، و الکترونیک نوری با اشعه ماوراء بنفش عمیق (DUV) ایده آل هستند.

سرویس تمیز کردن حرفه ای VETEK برای قطعات گرافیتی پوشش داده شده CVD SiC یک سرویس فنی تخصصی است که برای گیرنده های تجهیزات Aixtron / Veeco MOCVD و اجزای گرافیت مورد استفاده در فرآیندهای همپایی GaN / AlN / AlGaN طراحی شده است. فرآیند تمیز کردن اختصاصی ما اثر حافظه سطح را کاملاً از بین می برد، جریان گاز پایدار را در راکتور بازیابی می کند و از پوشش 100 میکرومتری CVD SiC با ضخامت صفر مطلق و بدون باقیمانده فلز محافظت می کند.

از آنجایی که تقاضا برای مبدل‌های MEMS با حساسیت بالا و کم مصرف با گسترش ارتباطات 5G، دستگاه‌های پزشکی دقیق و پوشیدنی‌های هوشمند افزایش می‌یابد، PZT ما روی ویفرهای Si/SOI یک راه‌حل مواد حیاتی ارائه می‌کند. با استفاده از فرآیندهای رسوب لایه نازک پیشرفته مانند Sol-gel یا کندوپاش، ما به قوام استثنایی و عملکرد پیزوالکتریک برتر روی بسترهای سیلیکونی دست می‌یابیم. این ویفرها به عنوان هسته اصلی برای تبدیل انرژی الکترومکانیکی عمل می کنند.

رشد کریستال کاربید سیلیکون یک فرآیند اصلی در ساخت دستگاه های نیمه هادی با کارایی بالا است. ثبات، دقت و سازگاری تجهیزات رشد کریستال به طور مستقیم کیفیت و عملکرد شمش کاربید سیلیکون را تعیین می کند. بر اساس ویژگی های فناوری حمل و نقل بخار فیزیکی (PVT)، Veteksemi یک کوره گرمایش مقاومتی برای رشد کریستال کاربید سیلیکون ایجاد کرده است که امکان رشد پایدار کریستال های کاربید سیلیکون 6 اینچی، 8 اینچی و 12 اینچی را با سازگاری کامل با سیستم های رسانا، نیمه عایق و مواد N، فراهم می کند. از طریق کنترل دقیق دما، فشار و توان، به طور موثری عیوب کریستالی مانند EPD (Etch Pit Density) و BPD (Dislocation صفحه پایه) را کاهش می دهد، در حالی که دارای مصرف انرژی کم و طراحی فشرده برای مطابقت با استانداردهای بالای تولید صنعتی در مقیاس بزرگ است.

دوغاب پرداخت CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) یک ماده با کارایی بالا است که در تولید نیمه هادی و پردازش مواد دقیق استفاده می شود. عملکرد اصلی آن دستیابی به صافی ریز و صیقل دادن سطح مواد تحت اثر هم افزایی خوردگی شیمیایی و آسیاب مکانیکی برای برآوردن نیازهای مسطح و کیفیت سطح در سطح نانو است. منتظر مشاوره بیشتر شما هستیم

به عنوان یکی از تولید کنندگان و تأمین کنندگان پیشرو و تأمین کنندگان ویفر چینی ، ویفر ساختگی پوشش CVD نیمه هادی Vetek یک ابزار تخصصی در ساخت نیمه هادی است که عمدتاً به منظور آزمایش ویفر سیلیکون و فرآیند آزمایش ویفر استفاده می شود. سوالات بیشتر شما مورد استقبال قرار می گیرد.