نمد نرم

VeTek Semiconductor تولید کننده حرفه ای نمد نرم گرافیت با کیفیت بالا است که متخصص در توسعه و تولید راه حل های نوآورانه برای صنایع فتوولتائیک و نیمه هادی است. تیم تحقیق و توسعه ما متشکل از گروهی از کارشناسان مجرب و مبتکر است. ما دائماً فناوری‌ها و برنامه‌های جدید را بررسی می‌کنیم و متعهد به بهبود عملکرد نمد نرم گرافیتی و رفع نیازهای در حال تحول صنعت هستیم.

نمد نرم گرافیت نیمه هادی VeTek دارای مزایای زیر است:

1. عملکرد عایق عالی: می تواند به طور موثری از دست دادن گرما را کاهش دهد، محیط دمایی پایدار را در داخل تجهیزات حفظ کند و مصرف انرژی را کاهش دهد.

2. مقاومت خوب در برابر دمای بالا: نمد نرم قادر به حفظ خواص فیزیکی و شیمیایی پایدار در شرایط دمای بالا است و می تواند در محیط های دمای بالا در فرآیندهای تولید فتوولتائیک و نیمه هادی مقاومت کند.

3. هدایت حرارتی کم: به دستیابی به کنترل دقیق دما، بهبود پایداری فرآیند و کیفیت محصول کمک می کند.

4. پایداری شیمیایی بالا: در برابر اکثر مواد شیمیایی مقاومت خوبی دارد و به راحتی خورده یا آلوده نمی شود.

5. خلوص بالا: تداخل ناخالصی ها را در فرآیندهای تولید فتوولتائیک و نیمه هادی کاهش می دهد و عملکرد و کیفیت محصول را تضمین می کند.

6. مقاومت در برابر شوک حرارتی خوب: قادر به مقاومت در برابر تغییرات سریع دما است و به راحتی پاره یا آسیب نمی بیند.

کاربرد نمد نرم گرافیت نیمه هادی VeTek:

1. اجزای میدان حرارتی کوره تک کریستال: در کوره تک کریستال Czochralski، از نمد نرم گرافیت می توان به عنوان ماده عایق برای حفظ موثر گرادیان دما در داخل کوره، بهبود کیفیت و ثبات رشد کریستال استفاده کرد.

2. کوره شمش پلی کریستالی: به عنوان یک ماده عایق حرارتی، تلفات حرارتی را کاهش می دهد، توزیع میدان حرارتی را بهینه می کند و به بهبود کیفیت و راندمان تولید شمش های سیلیکون پلی کریستالی کمک می کند.

3. کوره انتشار: برای عایق کاری، اطمینان از یکنواختی دما در داخل کوره، و بهبود دقت و قوام فرآیندهای انتشار استفاده می شود.

4. کوره اپیتاکسیال: یک محیط حرارتی پایدار برای فرآیند رشد همپایی فراهم می کند و تاثیر نوسانات دما را بر کیفیت لایه های اپیتاکسیال نیمه هادی کاهش می دهد.

5. بسته بندی نیمه هادی: در برخی از فرآیندهای بسته بندی نیمه هادی سطح بالا، نقش عایق، بافر و پشتیبانی را ایفا می کند و از تراشه ها در برابر آسیب های ناشی از استرس حرارتی و مکانیکی محافظت می کند.

6. تجهیزات تولید سلول فتوولتائیک: مانند تجهیزات رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته پلاسما (PECVD) که برای حفظ ثبات دما در داخل تجهیزات و اطمینان از کیفیت رسوب لایه نازک استفاده می شود.

نمد نرم گرافیت نیمه هادی VeTek شامل:

نمد کربن/گرافیت مبتنی بر ریون دارای خواصی مانند مقاومت در برابر دمای بالا، مقاومت در برابر خوردگی، خلوص بالا، محتوای خاکستر کم و عدم آلودگی نفتی است. قطر سیم کوچک، عملکرد عایق قوی. به طور عمده در کوره های رشد تک کریستال و تجهیزات با دمای بالا استفاده می شود.

نمد کربن/گرافیت مبتنی بر پیچ با استفاده از پارچه ابریشم اصیل آلمانی، مقاومت در برابر خوردگی، مقاومت در برابر اکسیداسیون و خلوص آن نسبت به مواد پایه ریون برتری دارد و عملکرد عایق بهتری دارد. به طور عمده در تجهیزات با عملکرد بالا در صنعت تک کریستال فتوولتائیک استفاده می شود.

نمد کربن/گرافیت PAN دارای خواصی مانند مقاومت در برابر دمای بالا، مقاومت در برابر خوردگی، خلوص بالا، محتوای خاکستر کم، بافت سبک و نرم و حفظ شکل بالا است. در محیط های با دمای بالا که توسط خلاء یا گاز بی اثر محافظت می شوند، عملکرد عایق آن برتر و پایدار است. به طور گسترده در تجهیزات با دمای بالا مانند کوره های رشد تک کریستال، کوره های شمش پلی کریستالی و کوره های القایی فرکانس متوسط ​​استفاده می شود.

نمد گرافیت پیش اکسید شده از طریق غربالگری دقیق مواد خام با کیفیت بالا و بهبود مستمر فرآیندهای تولید، محصولی با عملکرد عایق مشابه نمد گرافیتی مبتنی بر ریون و طول عمر بهتر از نمد گرافیتی مبتنی بر PAN به دست آمده است. دارای ویژگی های عایق خوب، مقاومت در برابر فرسایش، خلوص بالا، محتوای خاکستر کم، استحکام بالا و عمر طولانی است و نسبت عملکرد هزینه بسیار بالایی دارد. این به طور گسترده ای در کوره های رشد تک بلور، کوره های شمش پلی کریستالی، کوره های القایی با فرکانس متوسط ​​و کوره های درجه حرارت بالا با مقاومت گرافیت استفاده می شود.

احساس باتری ساخته شده از الیاف وارداتی آلمانی با کیفیت بالا مبتنی بر PAN، عملکردی استثنایی در پارامترهایی مانند صافی، تخلخل، چگالی، سطح ویژه و رسانایی دارد. این در درجه اول در کاربردهایی مانند سلول های سوختی و باتری های جریان استفاده می شود.