پوشش کاربید تانتالیوم

نیمه هادی VeTek تولید کننده پیشرو مواد پوشش کاربید تانتالم برای صنعت نیمه هادی است. محصولات اصلی ما شامل قطعات پوشش کاربید تانتالیوم CVD، قطعات پوشش TaC متخلخل شده برای رشد کریستال SiC یا فرآیند اپیتاکسی نیمه هادی است. با تصویب ISO9001، نیمه هادی VeTek کنترل خوبی بر کیفیت دارد. نیمه هادی VeTek برای تبدیل شدن به مبتکر در صنعت پوشش کاربید تانتالم از طریق تحقیق و توسعه مداوم فناوری های تکراری اختصاص داده شده است.

محصولات اصلی هستندحلقه راهنما با پوشش TaC, حلقه راهنمای سه گلبرگ با روکش CVD TaC, نیمه ماه با پوشش کاربید تانتالیوم TaC, گیرنده سیاره ای سیاره ای اپیتاکسیال پوشش CVD TaC, حلقه پوشش کاربید تانتالیوم, گرافیت متخلخل با پوشش کاربید تانتالم, محافظ چرخشی پوشش TaC, حلقه کاربید تانتالیوم, صفحه چرخشی پوشش TaC, گیرنده ویفر با پوشش TaC, حلقه منحرف کننده با روکش TaC, پوشش CVD TaC Coating, چاک با پوشش TaCو غیره، خلوص زیر 5ppm است، می تواند نیازهای مشتری را برآورده کند.

گرافیت پوشش TaC با پوشش دادن سطح زیرلایه گرافیت با خلوص بالا با یک لایه ریز از کاربید تانتالم توسط فرآیند اختصاصی رسوب بخار شیمیایی (CVD) ایجاد می شود. مزیت آن در تصویر زیر نشان داده شده است:

Excellent properties of TaC coating graphite

پوشش کاربید تانتالیوم (TaC) به دلیل نقطه ذوب بالای آن تا 3880 درجه سانتیگراد، استحکام مکانیکی عالی، سختی و مقاومت در برابر شوک های حرارتی مورد توجه قرار گرفته است و آن را به جایگزینی جذاب برای فرآیندهای اپیتاکسی نیمه هادی مرکب با شرایط دمایی بالاتر تبدیل کرده است. مانند سیستم Aixtron MOCVD و فرآیند اپیتاکسی LPE SiC. همچنین کاربرد گسترده ای در روش PVT کریستال SiC دارد. روند رشد

ویژگی های کلیدی:

●پایداری دما

●خلوص فوق العاده بالا

●مقاومت در برابر H2، NH3، SiH4، Si

●مقاومت در برابر استوک حرارتی

●چسبندگی قوی به گرافیت

●پوشش پوششی منسجم

● اندازه تا قطر 750 میلی متر (تنها سازنده در چین به این اندازه می رسد)

برنامه های کاربردی:

●حامل ویفر

● گیرنده گرمایش القایی

● المنت حرارتی مقاومتی

●دیسک ماهواره

●سر دوش

●حلقه راهنما

●گیرنده LED Epi

●نازل تزریق

●حلقه ماسک

● سپر حرارتی

پوشش کاربید تانتالیوم (TaC) روی سطح مقطع میکروسکوپی:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

پارامتر پوشش کاربید تانتالم نیمه هادی VeTek:

خواص فیزیکی پوشش TaC
تراکم	14.3 (g/cm³)
انتشار ویژه	0.3
ضریب انبساط حرارتی	6.3 10^-6/ ک
سختی (HK)	2000 هنگ کنگ
مقاومت	1×10^-5اهم * سانتی متر
پایداری حرارتی	<2500℃
اندازه گرافیت تغییر می کند	-10-20 میلی متر
ضخامت پوشش	مقدار معمولی ≥20um (10±35um)

داده های EDX پوشش TaC：

EDX data of TaC coating

داده های ساختار کریستالی پوشش TaC:

عنصر	درصد اتمی
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	میانگین
سی ک	52.10	57.41	52.37	53.96
ام	47.90	42.59	47.63	46.04

چاک پوشش TaC دیسک سیاره ای پوشش TaC
صفحه با پوشش TaC صفحه چرخشی پوشش TaC گیرنده پوشش TaC پوشش CVD TaC پوشش حلقه پوشش CVD TaC صفحه پوشش TaC

View as

لوله پوشش TAC

لوله پوشش TaC نیمه هادی VeTek یک جزء کلیدی برای رشد موفقیت آمیز تک کریستال های کاربید سیلیکون است. با مقاومت در برابر دمای بالا، بی اثری شیمیایی و عملکرد عالی، تولید کریستال های با کیفیت بالا را با نتایج ثابت تضمین می کند. به راه‌حل‌های نوآورانه ما برای بهبود فرآیند رشد کریستال SiC روش PVT خود و دستیابی به نتایج عالی اعتماد کنید. به درخواست ما خوش آمدید.

بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>

قسمت یدکی پوشش TAC

پوشش TAC در حال حاضر عمدتاً در فرآیندهای مانند رشد کریستال سیلیسن کاربید (روش PVT) ، دیسک اپیتاکسیال (از جمله اپیتاکسی کاربید سیلیکون ، LED Epitaxy) و غیره استفاده می شود. ما مشتاقانه منتظر هستیم تا شریک زندگی بلند مدت ما شوید.

بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>

GAN در گیرنده EPI

GAN در SIC EPI Susticor از طریق هدایت حرارتی عالی ، توانایی پردازش دمای بالا و ثبات شیمیایی ، نقش مهمی در پردازش نیمه هادی ایفا می کند و بهره وری بالا و کیفیت مواد فرآیند رشد اپیتاکسیال GAN را تضمین می کند. نیمه هادی Vetek یک تولید کننده حرفه ای چین در GAN در SIC EPI SoSector است ، ما صمیمانه منتظر مشاوره بیشتر شما هستیم.

بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>

حامل پوشش CVD TAC

حامل پوشش CVD TAC عمدتاً برای فرآیند اپیتاکسیال تولید نیمه هادی طراحی شده است. نقطه ذوب فوق العاده بلند CVD TAC Carner ، مقاومت در برابر خوردگی عالی و پایداری حرارتی برجسته ، ضروری بودن این محصول را در فرآیند نیمه هادی اپیتاکسیال تعیین می کند. از پرسش بیشتر خود استقبال می کنید.

بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>

گیرنده گرافیت با پوشش TaC

گیرنده گرافیت با پوشش TaC نیمه هادی VeTek از روش رسوب بخار شیمیایی (CVD) برای تهیه پوشش کاربید تانتالم بر روی سطح قطعات گرافیتی استفاده می کند. این فرآیند بالغ ترین و دارای بهترین خواص پوششی است. گیرنده گرافیت با پوشش TaC می تواند عمر مفید اجزای گرافیت را افزایش دهد، از مهاجرت ناخالصی های گرافیت جلوگیری کند و کیفیت epitaxy را تضمین کند. ما مشتاقانه منتظر درخواست شما هستیم.

بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>

زیر پوشش پوشش TAC

نیمه هادی Vetek Sustensor پوشش TAC را با پوشش TAC استثنایی خود ارائه می دهد ، این حساسیت مزایای زیادی را ارائه می دهد که آن را از راه حل های معمولی جدا می کند. یکپارچه سازی یکپارچه در سیستم های موجود ، مستعار پوشش TAC از نیمه هادی VETEK سازگاری و عملکرد کارآمد را تضمین می کند. عملکرد قابل اعتماد و پوشش TAC با کیفیت بالا به طور مداوم نتایج استثنایی را در فرآیندهای Epitaxy SIC ارائه می دهد. ما متعهد هستیم که محصولات با کیفیت را با قیمت های رقابتی ارائه دهیم و مشتاقانه شریک زندگی بلند مدت شما در چین هستیم.

بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>

ما به عنوان یک تولید کننده و تأمین کننده 77 پوند حرفه ای در چین ، کارخانه خودمان را داریم. این که آیا شما برای تأمین نیازهای خاص منطقه خود به خدمات سفارشی نیاز دارید یا می خواهید 77 پوند پیشرفته و با دوام ساخته شده در چین خریداری کنید ، می توانید برای ما پیام بگذارید.

کد QR

درباره ما

محصولات

با ما تماس بگیرید

تلفن
+86-18069220752
فکس
+86-579-87223657
پست الکترونیک
anny@veteksemi.com
نشانی
جاده Wangda ، خیابان Ziyang ، شهرستان Wuyi ، شهر Jinhua ، استان ژجیانگ ، چین

منوی وب

جستجوی محصول

زبان

خروج از منو

پوشش کاربید تانتالیوم

ویژگی های کلیدی:

برنامه های کاربردی:

پوشش کاربید تانتالیوم (TaC) روی سطح مقطع میکروسکوپی:

پارامتر پوشش کاربید تانتالم نیمه هادی VeTek:

داده های EDX پوشش TaC：

داده های ساختار کریستالی پوشش TaC:

لوله پوشش TAC

قسمت یدکی پوشش TAC

GAN در گیرنده EPI

حامل پوشش CVD TAC

گیرنده گرافیت با پوشش TaC

زیر پوشش پوشش TAC

ارسال استعلام

کد QR

درباره ما

محصولات

با ما تماس بگیرید

تلفن

فکس

پست الکترونیک

نشانی