نازل سرامیکی نیمه هادی

نازل سرامیکی نیمه هادی نقش مهمی درفرآیند HDP-CVD، برای کنترل دقیق جریان گاز و اطمینان از آن استفاده می شودرسوب فیلم با کیفیت بالا. اسپری نازل سرامیکی دقیقا مهندسی شده است تا از نرخ جریان گاز ثابت و قابل کنترل اطمینان حاصل کند و تلاطم احتمالی را هنگام ورود گاز به محفظه واکنش به حداقل برساند.

مشخصات فنی:

1. ترکیب ماده:

نازل سند بلاست سرامیکی VeTeK Semiconductor معمولاً از سرامیک های نیمه هادی مانند اکسید آلومینیوم (Al2O3) ساخته می شود.کاربید سیلیکون (SiC)یا اکسید زیرکونیوم (ZrO2)، این مواد دارای خواص عالی هستند:

    • ثبات حرارتی بالا (می تواند در برابر دمای بالاتر از 1000 ℃ مقاومت کند)

    • مقاومت در برابر خوردگی توسط گازهای واکنشی مورد استفاده درفرآیندهای CVD(مانند سیلان، آمونیاک)

    • مقاومت در برابر مواجهه مداوم با پلاسما.

2. طراحی سازه:

    • اندازه روزنه: دهانه نازل سرامیکی نیمه هادی به گونه ای علمی طراحی شده است که امکان کنترل دقیق جریان گاز را فراهم می کند که به نوبه خود بر یکنواختی و ضخامت فیلم تأثیر می گذارد.

    • زاویه ها و هندسه ها: دقیقاً برای اطمینان از توزیع یکنواخت گاز در سراسر بستر ، به حداقل رساندن نقص در لایه سپرده شده طراحی شده است.

در صنعت نیمه هادی، نازل انفجاری سرامیکی نیمه هادی در درجه اول در فرآیند HDP-CVD نقش کلیدی ایفا می کند. آنها همچنین برای رسوب لایه های نازک برای تولید میکروالکترونیک مورد استفاده قرار می گیرند و از پوشش های سطحی با کیفیت بالا که یکنواخت و عاری از آلاینده هستند اطمینان حاصل می کنند.

فروشگاه های نازل سرامیکی نیمه هادی VeTeK: