منوی وب

جستجوی محصول

زبان

محصولات

پوشش کاربید سیلیکون

نیمه هادی VeTek در تولید محصولات پوشش کاربید سیلیکون فوق خالص تخصص دارد، این پوشش ها برای اعمال بر روی گرافیت خالص، سرامیک و اجزای فلزی نسوز طراحی شده اند.


پوشش‌های با خلوص بالا عمدتاً برای استفاده در صنایع نیمه‌رسانا و الکترونیک هدف‌گذاری شده‌اند. آنها به عنوان یک لایه محافظ برای حامل‌های ویفر، گیرنده‌ها و عناصر گرمایشی عمل می‌کنند و از آنها در برابر محیط‌های خورنده و واکنش‌پذیری که در فرآیندهایی مانند MOCVD و EPI با آن مواجه می‌شوند، محافظت می‌کنند. این فرآیندها برای پردازش ویفر و ساخت دستگاه یکپارچه هستند. علاوه بر این، پوشش‌های ما برای کاربرد در کوره‌های خلاء و گرمایش نمونه، که در آن محیط‌های خلاء، واکنش‌پذیر و اکسیژن بالا وجود دارد، مناسب هستند.


در VeTek Semiconductor، ما یک راه حل جامع با قابلیت های پیشرفته ماشین آلات خود ارائه می دهیم. این ما را قادر می سازد تا اجزای پایه را با استفاده از گرافیت، سرامیک یا فلزات نسوز تولید کنیم و پوشش های سرامیکی SiC یا TaC را در داخل خود اعمال کنیم. ما همچنین خدمات پوشش را برای قطعات عرضه شده توسط مشتری ارائه می دهیم و انعطاف پذیری را برای رفع نیازهای مختلف تضمین می کنیم.


محصولات پوشش کاربید سیلیکون ما به طور گسترده ای در اپیتاکسی Si، اپیتاکسی SiC، سیستم MOCVD، فرآیند RTP/RTA، فرآیند اچینگ، فرآیند اچ کردن ICP/PSS، فرآیند انواع مختلف LED، از جمله LED آبی و سبز، LED UV و UV عمیق استفاده می شود. LED و غیره، که با تجهیزات LPE، Aixtron، Veeco، Nuflare، TEL، ASM، Annealsys سازگار است، TSI و غیره.


قطعات راکتوری که می توانیم انجام دهیم:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


پوشش سیلیکون کاربید چندین مزیت منحصر به فرد دارد:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



پارامتر پوشش سیلیکون کاربید نیمه هادی VeTek

خواص فیزیکی اولیه پوشش CVD SiC
اموال ارزش معمولی
ساختار کریستالی فاز β FCC پلی کریستالی، عمدتاً (111) گرا
چگالی پوشش SiC 3.21 گرم بر سانتی متر مکعب
سختی پوشش SiC سختی 2500 ویکرز (بار 500 گرم)
اندازه دانه 2 تا 10 میکرومتر
خلوص شیمیایی 99.99995%
ظرفیت حرارتی 640 ژون کیلوگرم-1· K-1
دمای تصعید 2700 ℃
قدرت خمشی 415 مگاپاسکال RT 4 نقطه
مدول یانگ 430 Gpa خم 4pt، 1300℃
هدایت حرارتی 300W·m-1· K-1
انبساط حرارتی (CTE) 4.5×10-6K-1

ساختار کریستالی فیلم CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
حلقه پوشش CVD SIC

حلقه پوشش CVD SIC

حلقه پوشش CVD SiC یکی از قطعات مهم نیمه ماه است. همراه با قسمت های دیگر، محفظه واکنش رشد همپایه SiC را تشکیل می دهد. VeTek Semiconductor یک تولید کننده و تامین کننده حلقه پوشش CVD SiC حرفه ای است. با توجه به نیازهای طراحی مشتری، ما می توانیم حلقه پوشش CVD SiC مربوطه را با رقابتی ترین قیمت ارائه دهیم. VeTek Semiconductor مشتاق است که شریک طولانی مدت شما در چین شود.
بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>
CVD SIC SIC SISCINGOR

CVD SIC SIC SISCINGOR

نیمه هادی Vetek یک تولید کننده پیشرو و مبتکر در CVD SIC SIC GRAPHITE SUSPITOR در چین است. SICIPTOR BARREL SIC با پوشش CVD SIC ما نقش اساسی در ترویج رشد اپیتاکسی مواد نیمه هادی بر روی ویفرها با ویژگی های محصول عالی آن دارد. به مشاوره بیشتر خود خوش آمدید.
بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>
گیرنده پوشش MOCVD SiC

گیرنده پوشش MOCVD SiC

نیمه هادی Vetek یک تولید کننده پیشرو و تأمین کننده حساس کننده پوشش MOCVD SIC در چین است که سالها بر تحقیق و توسعه و تولید محصولات پوشش SIC متمرکز شده است. حساس کننده پوشش MOCVD SIC ما از تحمل درجه حرارت بالا ، هدایت حرارتی خوب و ضریب انبساط حرارتی کم برخوردار است و نقش مهمی در پشتیبانی و گرم کردن ویفرهای سیلیکون یا کاربید سیلیکون (SIC) و رسوب یکنواخت گاز دارد. برای مشورت بیشتر خوش آمدید.
بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>
پوشش SIC قطعات گرافیتی Halfmoon

پوشش SIC قطعات گرافیتی Halfmoon

VeTek Semiconductor به عنوان یک تولید کننده و تامین کننده نیمه هادی حرفه ای، می تواند انواع اجزای گرافیت مورد نیاز برای سیستم های رشد همپای SiC را فراهم کند. این قطعات گرافیتی نیمه ماه با پوشش SiC برای بخش ورودی گاز راکتور همپایی طراحی شده اند و نقش حیاتی در بهینه سازی فرآیند تولید نیمه هادی دارند. نیمه هادی VeTek همیشه در تلاش است تا بهترین محصولات با کیفیت را با رقابتی ترین قیمت ها به مشتریان ارائه دهد. VeTek Semiconductor مشتاق است که شریک طولانی مدت شما در چین شود.
بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>
بخاری گرافیت منطقه گرم

بخاری گرافیت منطقه گرم

بخاری گرافیت منطقه گرم Veteksemicon برای کنترل شرایط شدید در کوره های درجه حرارت بالا و حفظ عملکرد و ثبات عالی در فرآیندهای پیچیده مانند رسوب بخار شیمیایی (CVD) ، رشد اپیتاکسی و بازپرداخت درجه حرارت بالا طراحی شده است. Veteksemicon همیشه بر تولید و تهیه بخاری های گرافیتی منطقه گرم با کیفیت بالا تمرکز دارد. ما صمیمانه از شما دعوت می کنیم تا با ما تماس بگیرید.
بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>
بخاری MOCVD

بخاری MOCVD

نیمه هادی Vetek یک تولید کننده پیشرو و تأمین کننده محصولات بخاری Veeco MOCVD در چین است. بخاری MOCVD دارای خلوص شیمیایی عالی ، پایداری حرارتی و مقاومت در برابر خوردگی است. این یک محصول ضروری در فرآیند رسوب بخار شیمیایی آلی فلزی (MOCVD) است. به سوالات بعدی خود خوش آمدید.
بیشتر ببینید >> ارسال استعلام >>
ما به عنوان یک تولید کننده و تأمین کننده 77 پوند حرفه ای در چین ، کارخانه خودمان را داریم. این که آیا شما برای تأمین نیازهای خاص منطقه خود به خدمات سفارشی نیاز دارید یا می خواهید 77 پوند پیشرفته و با دوام ساخته شده در چین خریداری کنید ، می توانید برای ما پیام بگذارید.
توصیه های خبری
استفاده از قطعات گرافیتی با پوشش TAC در کوره های کریستالی تک
استفاده از قطعات گرافیتی با پوشش TAC در کوره های کریستالی تکبیشتر ببینید >>
طراحی میدان حرارتی برای رشد کریستال تک SIC
طراحی میدان حرارتی برای رشد کریستال تک SICبیشتر ببینید >>
صفحات سرامیکی کاربید سیلیکون متخلخل: مواد با کارایی بالا در ساخت نیمه هادی
صفحات سرامیکی کاربید سیلیکون متخلخل: مواد با کارایی بالا در ساخت نیمه هادیبیشتر ببینید >>
خصوصیات اپیتاکس سیلیکون
خصوصیات اپیتاکس سیلیکونبیشتر ببینید >>
تفاوت بین اپیتاکسی و ALD چیست؟
تفاوت بین اپیتاکسی و ALD چیست؟بیشتر ببینید >>
یک قایق گرافیتی PECVD چیست؟
یک قایق گرافیتی PECVD چیست؟بیشتر ببینید >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept