محصولات

در Vetek Semiconductor، میدان های حرارتی گرافیتی با دقت طراحی شده اند تا استانداردهای سختگیرانه صنعت فتوولتائیک را برآورده کنند و عملکرد و کارایی مطلوب را در کاربردهای مختلف تضمین کنند. ما به تولید میدان های حرارتی گرافیت با کارایی بالا که کیفیت و مقرون به صرفه بودن را ارائه می دهند اختصاص داده شده است.

Pull Silicon Single Crystal Jig برای اطمینان از خلوص ویفرها و کنترل دقیق مناطق داغ در طول تبلور طراحی شده است ، و راه حل های پایدار و کارآمد برای صنعت فتوولتائیک ارائه می دهد. Veteksemicon مشتاقانه منتظر است تا همکاری های طولانی مدت را با شما تعیین کند.

میدان حرارتی کوره سیلیکون مونوکریستال از گرافیت به عنوان Crucible استفاده می کند و از بخاری ، حلقه راهنما ، براکت و گلدان گلدان ساخته شده از گرافیت فشرده ایزوستاتیک استفاده می کند تا از استحکام و خلوص گرافیت قابل اطمینان باشد. نیمه هادی Vetek Crucible را برای سیلیکون مونوکریستالی ، عمر طولانی ، خلوص بالا تولید می کند ، برای مشورت با ما خوش آمدید.

نیمه هادی Vetek بر تحقیق و توسعه و صنعتی سازی پوشش CVD SiC و پوشش CVD TaC تمرکز دارد. با در نظر گرفتن گیرنده پوشش SiC به عنوان مثال، محصول با دقت بالا، پوشش CVD SIC متراکم، مقاومت در برابر دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی قوی پردازش می شود. درخواست شما از ما استقبال می شود.

بلوک CVD SIC برای رشد کریستال SIC ، یک ماده اولیه خلوص بالا است که توسط نیمه هادی Vetek ساخته شده است. این نسبت ورودی خروجی بالایی دارد و می تواند کریستال های تک کاربید با کیفیت بالا و با اندازه بزرگ را رشد دهد ، که یک ماده نسل دوم برای جایگزینی پودر مورد استفاده در بازار امروز است. به بحث در مورد مسائل فنی خوش آمدید.

کاربید خلوص فوق العاده نیمه هادی وتک (SIC) که توسط رسوب بخار شیمیایی (CVD) تشکیل شده است ، به عنوان یک منبع منبع برای رشد کریستال های کاربید سیلیکون توسط حمل و نقل بخار فیزیکی (PVT) استفاده می شود. در فن آوری جدید رشد کریستال SIC ، ماده منبع در یک مصلوب بارگذاری شده و بر روی یک کریستال بذر تصویب می شود. از بلوک های CVD-SIC با خلوص بالا استفاده کنید تا به عنوان منبع رشد کریستال های SIC باشد. برای ایجاد همکاری با ما خوش آمدید.