محصولات

نیمه هادی Vetek ، سرامیک متخلخل سرامیکی متخلخل را که به طور گسترده در فناوری پردازش ویفر ، انتقال و سایر پیوندها استفاده می شود ، مناسب برای پیوند ، کتیبه ، پچ ، پولیش و سایر پیوندها ، پردازش لیزر ارائه می دهد. چاک سرامیکی متخلخل ما دارای جاذب خلاء فوق العاده قوی ، صافی زیاد و خلوص بالا نیازهای اکثر صنایع نیمه هادی را برآورده می کند.

گیرنده RTP با پوشش CVD SiC از VeTek Semiconductor تجهیزات پردازش حرارتی سریع (RTP) و بازپخت حرارتی سریع (RTA) را که در سراسر تولید نیمه هادی استفاده می شود، ارائه می دهد. این زیرلایه از گرافیت ایزواستاتیک با خلوص بالا ماشینکاری شده است که روی آن یک لایه کاربید سیلیسیم CVD متراکم (SiC) رسوب می‌کند. این ساختار رسانایی حرارتی بالا، بی اثری شیمیایی قوی و پایداری ابعادی را تحت چرخش مکرر در دمای بالا ایجاد می کند.

پوشش TAC در حال حاضر عمدتاً در فرآیندهای مانند رشد کریستال سیلیسن کاربید (روش PVT) ، دیسک اپیتاکسیال (از جمله اپیتاکسی کاربید سیلیکون ، LED Epitaxy) و غیره استفاده می شود. ما مشتاقانه منتظر هستیم تا شریک زندگی بلند مدت ما شوید.

به عنوان یک هسته قابل مصرف در فرآیند تولید نیمه هادی ، گرافیت متخلخل نقش غیر قابل تعویض در پیوندهای مختلفی مانند رشد کریستال ، دوپینگ و بازپخت دارد. به عنوان یک تولید کننده حرفه ای گرافیت متخلخل ، نیمه هادی Vetek متعهد است که محصولات گرافیتی متخلخل با کیفیت بالا را با قیمت های رقابتی ارائه دهد ، از پرسش بیشتر شما استقبال کنید.

GAN در SIC EPI Susticor از طریق هدایت حرارتی عالی ، توانایی پردازش دمای بالا و ثبات شیمیایی ، نقش مهمی در پردازش نیمه هادی ایفا می کند و بهره وری بالا و کیفیت مواد فرآیند رشد اپیتاکسیال GAN را تضمین می کند. نیمه هادی Vetek یک تولید کننده حرفه ای چین در GAN در SIC EPI SoSector است ، ما صمیمانه منتظر مشاوره بیشتر شما هستیم.

حامل پوشش CVD TAC عمدتاً برای فرآیند اپیتاکسیال تولید نیمه هادی طراحی شده است. نقطه ذوب فوق العاده بلند CVD TAC Carner ، مقاومت در برابر خوردگی عالی و پایداری حرارتی برجسته ، ضروری بودن این محصول را در فرآیند نیمه هادی اپیتاکسیال تعیین می کند. از پرسش بیشتر خود استقبال می کنید.