ald برتر

به عنوان یک حرفه ایald برترتولید کننده در چین ، محصول ماald برترکنترل دقیق دما ، توزیع گاز یکنواخت و هدایت حرارتی عالی و سایر خصوصیات محصول این را تعیین می کندald برترنقش مهمی در فرآیند رسوب لایه اتمی (ALD) ایفا می کند. نقش مهم ، از مشاوره خود استقبال کنید.

رسوب فیلم نازک یکنواخت: ALD SoSenceor رسوب یکنواخت لایه های اتمی را در کل سطح ویفر در طی فرآیند رسوب لایه اتمی (ALD) تضمین می کند. طراحی چرخشی منحصر به فرد آن به گازها و واکنش دهنده ها اجازه می دهد تا به طور مساوی با سطح ویفر تماس بگیرند و در نتیجه ضخامت یکنواخت فیلم ایجاد شود. این برای تولید نیمه هادی با دقت بالا بسیار مهم است.

کیفیت رسوب را بهبود بخشید: با بهینه سازی کنترل دما و توزیع گاز ، ALD Seasuntor به طور قابل توجهی کیفیت و عملکرد فیلم را بهبود می بخشد ، نقص و عدم یکنواختی را کاهش می دهد. این امر باعث می شود که برای تولید نیمه هادی و دستگاه الکترونیکی با دقت بالا ، اطمینان از قابلیت اطمینان و عملکرد محصول.

از پردازش چند ویفر پشتیبانی می کند: برخی از طرح های حساس ALD اجازه می دهد چندین ویفر به طور همزمان پردازش شوند و بهره وری تولید را افزایش دهند. این امر به ویژه برای محیط های تولید با توان بالا ، که قادر به تأمین نیازهای تولید در مقیاس بزرگ هستند ، بسیار مهم است.

اندازه ها و انواع مختلفی از ویفرها را در خود جای می دهد: ALD SESIPTORS به طور کلی برای سازگاری زیاد طراحی شده است و می تواند از اندازه ها و انواع مختلف ویفرها پشتیبانی کند. این امر باعث می شود در انواع فرآیندهای تولید ، انعطاف پذیری و سازگاری بیشتری را فراهم کند.

هزینه های تولید را کاهش دهید: با توجه به توزیع کارآمد گاز و قابلیت گرمایش یکنواخت ، ALD Seasuntor باعث افزایش کارایی فرآیند رسوب می شود و در نتیجه ضایعات مواد و هزینه های تولید را کاهش می دهد. این نه تنها به بهبود کارآیی تولید کمک می کند بلکه هزینه های تولید را نیز به میزان قابل توجهی کاهش می دهد.

خصوصیات فیزیکی اساسی پوشش CVD SIC:

مغازه های تولیدی:

نمای کلی زنجیره صنعت Epitaxy تراشه نیمه هادی：