حلقه های راهنمای پوشش TAC

عملکرد حلقه های راهنمای پوشش TAC:

کنترل دقیق جریان گاز:حلقه راهنمای پوشش TACاز نظر استراتژیک در سیستم تزریق بنزین قرار داردراکتور MOCVDبشر عملکرد اصلی آن هدایت جریان گازهای پیش ساز و اطمینان از توزیع یکنواخت آنها در سطح ویفر بستر است. این کنترل دقیق بر دینامیک جریان گاز برای دستیابی به رشد لایه یکنواخت اپیتاکسیال و خصوصیات ماده مورد نظر ضروری است.

مدیریت حرارتی: حلقه های راهنمای پوشش TAC اغلب به دلیل نزدیکی به حساس و بستر گرم شده ، در دمای بالا عمل می کنند. هدایت حرارتی عالی TAC به از بین رفتن گرما کمک می کند ، از گرمای بیش از حد موضعی و حفظ مشخصات دمای پایدار در منطقه واکنش جلوگیری می کند.

مزایای TAC در MOCVD:

مقاومت شدید درجه حرارت: TAC دارای یکی از بالاترین نقاط ذوب در بین تمام مواد ، بیش از 3800 درجه سانتیگراد است.

عدم تحرک شیمیایی برجسته: TAC مقاومت استثنایی در برابر خوردگی و حمله شیمیایی از گازهای پیش ساز واکنشی مورد استفاده در MOCVD ، مانند آمونیاک ، سیلین و ترکیبات مختلف فلزی و آلی دارد.

خصوصیات بدنیپوشش TAC:

مزایایی برای عملکرد MOCVD:

استفاده از حلقه راهنمای پوشش پوشش نیمه هادی Vetek TAC در تجهیزات MOCVD به طور قابل توجهی به این موارد کمک می کند:

افزایش تجهیزات به روز: دوام و طول عمر طولانی حلقه راهنمای پوشش TAC ، نیاز به تعویض های مکرر ، به حداقل رساندن خرابی نگهداری و به حداکثر رساندن راندمان عملیاتی سیستم MOCVD را کاهش می دهد.

پایداری فرآیند پیشرفته: پایداری حرارتی و عدم تحرک شیمیایی TAC به یک محیط واکنش پایدار و کنترل شده در محفظه MOCVD کمک می کند ، به حداقل رساندن تغییرات فرآیند و بهبود تکرارپذیری.

یکنواختی لایه اپیتاکسیال بهبود یافته: کنترل دقیق جریان گاز تسهیل شده توسط حلقه های راهنمای پوشش TAC ، توزیع پیش ساز یکنواخت را تضمین می کند ، در نتیجه بسیار یکنواخترشد لایه اپیتاکسیالبا ضخامت و ترکیب مداوم.

پوشش کاربید Tantalum (TAC)در مقطع میکروسکوپی: