کوره رشد کریستال SiC گرمایش مقاومتی با اندازه بزرگ
رشد کریستال کاربید سیلیکون یک فرآیند اصلی در ساخت دستگاه های نیمه هادی با کارایی بالا است. ثبات، دقت و سازگاری تجهیزات رشد کریستال به طور مستقیم کیفیت و عملکرد شمش کاربید سیلیکون را تعیین می کند. بر اساس ویژگی های فناوری حمل و نقل بخار فیزیکی (PVT)، Veteksemi یک کوره گرمایش مقاومتی برای رشد کریستال کاربید سیلیکون ایجاد کرده است که امکان رشد پایدار کریستال های کاربید سیلیکون 6 اینچی، 8 اینچی و 12 اینچی را با سازگاری کامل با سیستم های رسانا، نیمه عایق و مواد N، فراهم می کند. از طریق کنترل دقیق دما، فشار و توان، به طور موثری عیوب کریستالی مانند EPD (Etch Pit Density) و BPD (Dislocation صفحه پایه) را کاهش می دهد، در حالی که دارای مصرف انرژی کم و طراحی فشرده برای مطابقت با استانداردهای بالای تولید صنعتی در مقیاس بزرگ است.
0.15Pa (مرحله رشد)؛ نوسان <±0.001 Torr (در 1.0Torr)
چگالی نقص کریستال
BPD <381 ea/cm²؛ TED < 1054 ea/cm²
نرخ رشد کریستال
0.2-0.3mm/h
ارتفاع رشد کریستال
30-40 میلی متر
ابعاد کلی (W×D×H)
≤1800mm×3300mm×2700mm
مزایای اصلی
● سازگاری با اندازه کامل
رشد پایدار کریستال های کاربید سیلیکون 6 اینچی، 8 اینچی و 12 اینچی را امکان پذیر می کند که کاملاً با سیستم های مواد رسانا، نیمه عایق و نوع N سازگار است. نیازهای تولید محصولات با مشخصات مختلف را پوشش می دهد و با سناریوهای کاربردی متنوع سازگار می شود.
● ثبات فرآیند قوی
کریستال های 8 اینچی دارای قوام پلی تایپ 4H عالی، شکل سطح پایدار و تکرارپذیری بالا هستند. فناوری رشد کریستال کاربید سیلیکون 12 اینچی تأیید را با امکان سنجی تولید انبوه بالا تکمیل کرده است.
● نرخ نقص کریستال پایین
از طریق کنترل دقیق دما، فشار و توان، عیوب کریستال به طور موثر با شاخصهای کلیدی مطابق با استانداردهای EPD=1435 ea/cm²، BPD=381 ea/cm²، TSD=0 ea/cm² و TED=1054 ea/cm² کاهش مییابد. همه نشانگرهای نقص الزامات کیفیت کریستال درجه بالا را برآورده می کنند و عملکرد شمش را به طور قابل توجهی بهبود می بخشند.
● هزینه های عملیاتی قابل کنترل
کمترین مصرف انرژی را در بین محصولات مشابه دارد. اجزای اصلی (مانند سپرهای عایق حرارتی) چرخه جایگزینی طولانی 6-12 ماهه دارند که هزینه های عملیاتی جامع را کاهش می دهد.
● Plug-and-Play راحتی
بستههای دستور و فرآیند سفارشی بر اساس ویژگیهای تجهیزات، تأیید شده از طریق تولید طولانیمدت و چند دسته، امکان تولید فوری پس از نصب را فراهم میکند.
● ایمنی و قابلیت اطمینان
برای از بین بردن خطرات احتمالی ایمنی، یک طراحی خاص ضد قوس جرقه را اتخاذ می کند. نظارت بر زمان واقعی و عملکردهای هشدار اولیه به طور فعال از خطرات عملیاتی جلوگیری می کند.
● عملکرد عالی خلاء
شاخصهای نهایی افزایش خلاء و فشار از سطوح پیشرو بینالمللی فراتر رفته و محیطی تمیز را برای رشد کریستال تضمین میکند.
● بهره برداری و نگهداری هوشمند
دارای یک رابط بصری HMI همراه با ضبط اطلاعات جامع است که از عملکردهای نظارت از راه دور اختیاری برای مدیریت تولید کارآمد و راحت پشتیبانی می کند.
نمایش بصری عملکرد هسته
منحنی دقت کنترل دما
دقت کنترل دما در کوره رشد کریستال ≤ ± 0.3 درجه سانتیگراد. نمای کلی منحنی دما
نمودار دقت کنترل فشار
دقت کنترل فشار کوره رشد کریستال: 1.0 Torr، دقت کنترل فشار: 0.001 Torr
دقت پایداری نیرو
ثبات و سازگاری بین کوره ها / دسته ها: دقت پایداری قدرت
در وضعیت رشد کریستال، دقت کنترل توان در طول رشد کریستال پایدار 0.15 ± است.
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
ما از کوکی ها استفاده می کنیم تا تجربه مرور بهتری به شما ارائه دهیم، ترافیک سایت را تجزیه و تحلیل کنیم و محتوا را شخصی سازی کنیم. با استفاده از این سایت، شما با استفاده ما از کوکی ها موافقت می کنید. سیاست حفظ حریم خصوصی