پوشش SIC سینی اپیتاکسیال مونوکریستالی مونوکریستالی

سینی اپیتاکسیال پوشش مونوکریستالی SIC وتک نیمه هادی Vetek به طور خاص برای رشد اپیتاکسیال سیلیکون مونوکریستالی طراحی شده و نقش مهمی در کاربرد صنعتی اپیتاکسی سیلیکون مونوکریستالی و دستگاه های نیمه هادی مرتبط دارد.روکشنه تنها مقاومت در برابر دما و مقاومت در برابر خوردگی سینی را به طور قابل توجهی بهبود می بخشد، بلکه ثبات طولانی مدت و عملکرد عالی را در محیط های شدید تضمین می کند.

مزایای پوشش SIC

redad هدایت حرارتی بالا: پوشش SIC توانایی مدیریت حرارتی سینی را به شدت بهبود می بخشد و می تواند به طور موثری گرمای تولید شده توسط دستگاه های با قدرت بالا را پراکنده کند.

●  مقاومت در برابر خوردگی: پوشش SIC در محیط های با درجه حرارت بالا و خورنده عملکرد خوبی دارد و از عمر خدمات طولانی مدت و قابلیت اطمینان اطمینان می دهد.

●  یکنواختی سطح: یک سطح صاف و صاف را فراهم می کند، به طور موثر از خطاهای تولیدی ناشی از ناهمواری سطح جلوگیری می کند و از ثبات رشد اپیتاکسیال اطمینان می دهد.

طبق تحقیقات ، هنگامی که اندازه منافذ بستر گرافیت بین 100 تا 500 نانومتر است ، می توان یک پوشش شیب SIC را بر روی بستر گرافیت تهیه کرد و پوشش SIC توانایی ضد اکسیداسیون قوی تری دارد. مقاومت اکسیداسیون پوشش SIC بر روی این گرافیت (منحنی مثلثی) بسیار قوی تر از سایر مشخصات گرافیت است ، مناسب برای رشد اپیتاکسی سیلیکون کریستالی تک. پوشش SIC SIC SIC SIC SIC VETEK سینی اپیتاکسیال SILicon Silicon از SGL Graphite به عنوانبستر گرافیت، که قادر به دستیابی به چنین عملکردی است.

سینی اپیتاکسیال Silicon Silicon Silicon Silicon Coating Monocrystaline SiC SEC SIC از بهترین مواد گرافیتی و پیشرفته ترین فناوری پردازش پوشش SIC استفاده می کند. مهمتر از همه ، مهم نیست که به چه مواردی از مشتری نیاز دارد ، ما می توانیم تمام تلاش خود را برای دیدار با آن انجام دهیم.

خصوصیات فیزیکی اساسی پوشش CVD SIC

فروشگاه های تولید نیمه هادی VeTek