صفحه توزیع گاز کوارتز

صفحات توزیع گاز کوارتز ، که به عنوان دوش کوارتز نیز شناخته می شوند ، اجزای مهم در ساخت نیمه هادی هستند. این صفحات با استفاده از خلوص استثنایی ، مقاومت در برابر درجه حرارت بالا و مقاومت در برابر خوردگی کوارتز ، جریان یکنواخت و پایدار گازهای فرآیند را بر روی سطح ویفر تضمین می کند. این تحویل دقیق برای حفظ کیفیت و یکنواختی فیلم های سپرده شده یا ویژگی های اچ شده ضروری است.

ویژگی های اصلی کوارتز ذوب شده با خلوص بالا

● ماده: 99.99 ٪ کوارتز ذوب شده با خلوص بالا

● مقاومت درجه حرارت بالا: مقاومت در برابر دمای بالاتر از 1000

reg مقاومت در برابر خوردگی: دوام عالی در برابر گازهای فرآیند و محیط های پلاسما

struge جریان گاز دقیق: توزیع میکرو سوراخ یکنواخت برای تحویل بهینه گاز و یکنواختی رسوب

design طراحی قابل تنظیم: اندازه ، الگوی سوراخ و ویژگی های نصب می تواند برای مدل های تجهیزات خاص تنظیم شود

نقش اصلی در تولید نیمه هادی

1. رسوب بخار فیزیکی (PVD) و رسوب بخار شیمیایی (CVD)

نقش: در فرآیندهای PVD و CVD ، صفحه توزیع گاز دقیقاً گازهای واکنشی (به عنوان مثال ، سیلین ، آمونیاک ، اکسیژن) یا پیش سازها را بر روی ویفر هدایت می کند تا یک فیلم نازک مورد نظر را تشکیل دهد.

موارد خاص:

control کنترل یکنواختی: میکرو سوراخ های دقیقاً مهندسی شده صفحه اطمینان حاصل می کند که جریان گاز و غلظت در کل سطح ویفر یکنواخت است. این برای سپرده گذاری فیلم ها با ضخامت و عملکرد مداوم بسیار مهم است.

prevent پیشگیری از آلودگی: خلوص بالای کوارتز مانع از واکنش صفحه با گازهای فرآیند یا انتشار ناخالصی ها می شود. این خلوص فیلم را حفظ می کند و از نقص در سطح ویفر جلوگیری می کند.

2. رسوب بخار شیمیایی با افزایش پلاسما (PECVD)

نقش: در PECVD ، دوش کوارتز نه تنها گازهای واکنشی را ارائه می دهد بلکه به عنوان الکترود برای تولید پلاسما عمل می کند.

موارد خاص:

● احتراق پلاسما: سر دوش معمولاً برای تولید پلاسما به منبع تغذیه رادیویی فرکانس (RF) متصل می شود. ذرات پر انرژی در داخل پلاسما باعث تجزیه واکنش دهنده های گازی می شوند و باعث می شوند که رسوب فیلم در دماهای پایین تر باشد.

stability ثبات حرارتی: کوارتز ثبات حرارتی عالی را نشان می دهد و به آن اجازه می دهد تا در برابر محیط پلاسما با درجه حرارت بالا مقاومت کند. این به حفظ دمای یکنواخت در محفظه فرآیند کمک می کند و از کیفیت و قوام فیلم بیشتر اطمینان می یابد.

3.

نقش: در اچ کردن خشک ، صفحه توزیع گاز گازهای اچ واکنشی (به عنوان مثال ، فلوروکربن ها ، کلر) را به داخل محفظه اچ معرفی می کند.

موارد خاص:

یکنواختی اچ: صفحه یک جریان یکنواخت و غلظت گازهای اچ را تضمین می کند ، که عمق و مشخصات مداوم اچ را در کل ویفر تضمین می کند. این برای دستیابی به الگوهای دقیق مورد نیاز برای دستگاه های نیمه هادی پیشرفته بسیار مهم است.

reg مقاومت در برابر خوردگی: خصوصیات خورنده قوی گازهای اچ نیاز به یک ماده با دوام دارد. مقاومت در برابر خوردگی زیاد کوارتز طول عمر دوش را افزایش داده و خطر وقفه های فرآیند را کاهش می دهد.

4. تمیز کردن ویفر

نقش: در فرآیندهای خاص تمیز کردن ویفر ، از یک صفحه توزیع گاز کوارتز برای تحویل گازهای تمیز کننده (به عنوان مثال ، ازن ، آمونیاک) به طور یکنواخت به سطح ویفر استفاده می شود تا باقیمانده ها یا آلاینده ها را از بین ببرد.

موارد خاص:

● تمیز کردن مداوم: صفحه تضمین می کند که تمیز کردن گازها به هر قسمت از ویفر برسد و یک فرآیند تمیز کردن کامل و یکنواخت را امکان پذیر کند.

ation سازگاری شیمیایی: سازگاری کوارتز با طیف گسترده ای از مواد شیمیایی تمیز کننده از واکنش ها جلوگیری می کند و خلوص و اثربخشی فرآیند تمیز کردن را حفظ می کند.