پایه کوارتز Ald

پایه کوارتز ذوب شده ALD VeTek Semiconductor ALD نقشی کلیدی در فرآیند تولید نیمه هادی ها به عنوان یک ساختار پشتیبانی برایقایق کوارتز، که برای نگه داشتن آن استفاده می شودویفر. پایه کوارتز ذوب شده با حفظ دمای پایدار به رسوب یکنواخت فیلم کمک می کند، که به طور مستقیم بر عملکرد و قابلیت اطمینان دستگاه های نیمه هادی تأثیر می گذارد. علاوه بر این، Quartz Pedestal توزیع یکنواخت گرما و نور را در محفظه فرآیند تضمین می کند و در نتیجه کیفیت کلی فرآیند رسوب را بهبود می بخشد.

مزایای مواد پایه کوارتز ذوب شده ALD

مقاومت در برابر درجه حرارت بالا: نقطه نرم شدن پایه کوارتز ذوب شده تا حدود 1730 درجه سانتیگراد است و می تواند عملیات دمای بالای 1100 درجه سانتیگراد تا 1250 درجه سانتیگراد را برای مدت طولانی تحمل کند و می تواند در محیط های با دمای شدید تا 1450 درجه سانتیگراد قرار گیرد. برای مدت کوتاهی

مقاومت در برابر خوردگی عالی: کوارتز ذوب شده تقریباً از نظر شیمیایی تقریباً به همه اسیدها به جز اسید هیدروفلوئوریک بی اثر است. مقاومت اسید آن 30 برابر بیشتر از سرامیک و 150 برابر بیشتر از فولاد ضد زنگ است. کوارتز ذوب شده از نظر شیمیایی در دماهای بالا بی نظیر است و آن را به یک ماده ایده آل برای فرآیندهای شیمیایی پیچیده تبدیل می کند.

ثبات حرارتی: یکی از ویژگی های اصلی مواد پایه کوارتز ذوب شده ، ضریب بسیار کم آن در گسترش حرارتی است. این بدان معنی است که به راحتی می تواند نوسانات دمای چشمگیر را بدون ترک خوردگی کنترل کند. به عنوان مثال ، کوارتز سیلیس ذوب شده را می توان به سرعت در دمای 1100 درجه سانتیگراد گرم کرد و مستقیماً در آب سرد بدون آسیب غوطه ور شد ، یک ویژگی مهم در شرایط تولید استرس بالا.

فرآیند ساخت دقیق: فرآیند تولید پایه های سیلیس ذوب شده کاملاً از استانداردهای کیفیت بالا پیروی می کند. فرآیند تولید از فرآیندهای شکل دهی و جوشکاری گرم استفاده می کند که معمولاً در یک محیط اتاق تمیز کلاس 10000 تکمیل می شود. پس از آن، پایه شیشه ای کوارتز ذوب شده به طور کامل با آب فوق خالص (18 MΩ) تمیز می شود تا از خلوص محصول و عملکرد مطلوب اطمینان حاصل شود. هر محصول نهایی به شدت بازرسی، تمیز و بسته بندی می شود تا در اتاق تمیز کلاس 1000 یا بالاتر بسته بندی شود تا با استانداردهای بالای صنعت نیمه هادی مطابقت داشته باشد.

مواد کوارتز سیلیس مات با خلوص بالا

Veteksemi Ald Fused Ceartz Pedestal از مواد کوارتز مات با خلوص بالا برای جداسازی موثر گرما و نور استفاده می کند. خصوصیات محافظت از گرما و محافظت از نور عالی آن ، آن را قادر می سازد توزیع دمای یکنواخت را در محفظه فرآیند حفظ کند و از یکنواختی و قوام نازک اطمینان حاصل کندرسوب فیلمروی سطح ویفر

فیلدهای کاربردی

پایه های کوارتز ذوب شده به دلیل عملکرد عالی آنها در بسیاری از زمینه های صنعت نیمه هادی مورد استفاده قرار می گیرد. درفرآیند رسوب لایه اتمی (ALD)، از کنترل دقیق رشد فیلم پشتیبانی می کند و پیشرفت دستگاه های نیمه هادی را تضمین می کند. درفرآیند رسوب شیمیایی بخار کم فشار (LPCVD).پایداری حرارتی و قابلیت محافظت نوری پایه کوارتز با خلوص بالا، تضمینی برای رسوب یکنواخت لایه‌های نازک را فراهم می‌کند و در نتیجه عملکرد و بازده دستگاه را بهبود می‌بخشد.

علاوه بر این ، در فرآیند ویفر انتشار ، مقاومت در برابر دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی پایه کوارتز ذوب شده ، قابلیت اطمینان و قوام فرآیند دوپینگ ماده نیمه هادی را تضمین می کند. این فرآیندهای کلیدی عملکرد الکتریکی دستگاههای نیمه هادی را تعیین می کنند ، و مواد کوارتز ذوب شده با کیفیت بالا نقش مهمی در دستیابی به بهترین نتایج این فرآیندها دارند.

فروشگاه های VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal: