محصولات
لوله کوره کوارتز برای کوره انتشار
  • لوله کوره کوارتز برای کوره انتشارلوله کوره کوارتز برای کوره انتشار

لوله کوره کوارتز برای کوره انتشار

لوله های کوره کوارتز با خلوص بالا VeTek Semiconductor اجزای محفظه فرآیند اصلی برای تجهیزات پردازش حرارتی نیمه هادی هستند. این لوله ها که از کوارتز ذوب شده دی هیدروکسیله درجه نیمه هادی ساخته شده اند، به عنوان حفره واکنش مهر و موم شده در کوره های اکسیداسیون، کوره های انتشار، کوره های بازپخت و سیستم های LPCVD عمل می کنند. آنها خلوص استثنایی، پایداری حرارتی و مقاومت شیمیایی را ارائه می‌دهند و میدان‌های دمایی یکنواخت، جریان گاز پایدار و آلودگی بسیار کم را برای پردازش ویفر 4/6/8/12 اینچی تضمین می‌کنند.

1. ویژگی های کلیدی و مزایا

• کوارتز ذوب شده دهیدروکسیله با خلوص فوق العاده بالا (SiO2 ≥ 99.999٪) با ناخالصی های فلزی کنترل شده در سطوح ppb و محتوای هیدروکسیل بسیار کم

• دمای عملیاتی طولانی مدت تا 1100 درجه سانتیگراد. اوج مقاومت کوتاه مدت تا 1200 درجه سانتیگراد

• مقاومت در برابر شوک حرارتی عالی پس از بازپخت کامل تنش زدایی - مقاوم در برابر ترک تحت تغییرات سریع دما

• بی اثری شیمیایی فوق العاده در برابر گازهای فرآیند اکسید کننده، احیا کننده و هالوژن دار. مناسب برای محیط های پلاسما و خورنده

• خروجی خلاء بسیار کم. دیواره داخلی صاف تجمع محصول جانبی را به حداقل می رساند و از تکرارپذیری فرآیند پشتیبانی می کند

• شکل دهی یک تکه با ضخامت دیواره یکنواخت، هم محوری بالا، و انتهای تمام شده دقیق برای آب بندی مطمئن

• ساختارهای قابل تنظیم: لوله های مستقیم، لوله های کاهنده، لوله های فلنج دار، طول های طولانی، و تنظیمات انتهایی ویژه برای کوره های عمودی یا افقی

2. برنامه های کاربردی معمولی

لوله های کوره کوارتز VeTek به طور گسترده به عنوان محفظه واکنش هسته در موارد زیر استفاده می شود:

• کوره های اکسیداسیون حرارتی (اکسیداسیون خشک/تر)

• کوره های انتشار برای معرفی ناخالصی (B، P، As، و غیره)

• سیستم های LPCVD برای رسوب لایه نازک

• بازپخت خلاء و سایر فرآیندهای عملیات حرارتی در دمای بالا

• سازگار با پلتفرم های ویفر 4 اینچی، 6 اینچی، 8 اینچی و 12 اینچی (زیرهای Si، SiC، GaN، یاقوت کبود)

آنها از منطق، حافظه، دستگاه برق، MCU، LED، MEMS و خطوط تولید نیمه هادی با فاصله باند گسترده پشتیبانی می کنند که نیاز به یکنواختی دمای پایدار، کنترل جریان گاز و محیط های فرآیند فوق العاده تمیز دارند.


3. پارامترهای فنی کلیدی

• مواد: کوارتز ذوب شده دهیدروکسیله درجه نیمه هادی (SiO2 ≥ 99.999٪)، هیدروکسیل کم، ناخالصی های فلزی کم

• سازگاری ویفر: 4 / 6 / 8 / 12 اینچ

• دمای کار طولانی مدت: -20 درجه سانتیگراد تا 1100 درجه سانتیگراد. اوج کوتاه مدت تا 1200 درجه سانتیگراد

• فرآیند: شکل دهی حرارتی یک تکه، همگن سازی دیوار، پایان کار، بازپخت تنش زدایی، تست نشت هلیوم، تمیز کردن فوق العاده تمیز

• ساختارهای موجود: لوله مستقیم، لوله کاهنده، لوله فلنج، لوله طولانی / با طول سفارشی، تنظیمات انتهایی ویژه

• سفارشی‌سازی: قطر داخلی/خارجی، طول، ضخامت دیوار، مشخصات فلنج، و هندسه‌های خاص برای هر نقشه مشتری

4. چرا لوله های کوره کوارتز VeTek را انتخاب کنید؟

VeTek Semiconductor به عنوان یک تولید کننده حرفه ای قطعات کوارتز نیمه هادی، ارائه می دهد:

• لوله های کوره کوارتز با خلوص بالا مهندسی شده برای اکسیداسیون، انتشار، LPCVD، و تجهیزات بازپخت

• کنترل خلوص دقیق، دقت ابعاد و تمیزی مناسب برای تولید اتاق تمیز کلاس 10 / کلاس 100

• سفارشی سازی کامل و طراحی های سازگار با OEM برای کوره های لوله عمودی و افقی

• محصولات کوارتز نیمه هادی تکمیلی از جمله قایق های ویفر، بوته ها، آسترها و سایر اجزای فرآیند

لوله‌های کوره کوارتز ما به حفظ شرایط پایدار حرارتی و جریان گاز، به حداقل رساندن آلودگی ذرات و فلزات و افزایش عمر مفید تحت چرخه‌های مداوم در دمای بالا کمک می‌کنند - از بازده بالاتر و هزینه کمتر مالکیت در پردازش حرارتی نیمه‌رسانا پشتیبانی می‌کنند.


ارسال استعلام
اطلاعات تماس
  • نشانی

    جاده وانگدا، خیابان زیانگ، شهرستان ووی، شهر جین هوا، استان ژجیانگ، چین

  • پست الکترونیک

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
ما از کوکی ها استفاده می کنیم تا تجربه مرور بهتری به شما ارائه دهیم، ترافیک سایت را تجزیه و تحلیل کنیم و محتوا را شخصی سازی کنیم. با استفاده از این سایت، شما با استفاده ما از کوکی ها موافقت می کنید. سیاست حفظ حریم خصوصی
رد کردنقبول کنید