محصولات

به عنوان یک تولید کننده حرفه ای ، مبتکر و رهبر محصولات SoSeptor چرخش پوشش TAC در چین. VETEK SEMICONDUCTOR TAC SUSTATION ROTATION ROTATION معمولاً در رسوب بخار شیمیایی (CVD) و تجهیزات اپیتاکس پرتو مولکولی (MBE) برای پشتیبانی و چرخاندن ویفرها برای اطمینان از رسوب یکنواخت مواد و واکنش کارآمد نصب می شود. این یک مؤلفه اصلی در پردازش نیمه هادی است. از مشاوره بیشتر خود خوش آمدید.

نیمه هادی Vetek یک تولید کننده حرفه ای و رهبر CVD TAC پوشش محصولات قابل Crucible در چین است. پوشش CVD TAC Crucible بر اساس پوشش کربن تانتالوم (TAC) است. پوشش کربن Tantalum به طور مساوی روی سطح Crucible از طریق فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD) پوشانده می شود تا مقاومت حرارتی و مقاومت در برابر خوردگی آن را تقویت کند. این یک ابزار مادی است که به طور خاص در محیط های شدید با درجه حرارت بالا استفاده می شود. از مشاوره بیشتر خود خوش آمدید.

نیمه هادی Vetek یک تولید کننده حرفه ای و رهبر محصولات نگهدارنده ویفر با پوشش SIC در چین است. دارنده ویفر پوشیده از SIC یک نگهدارنده ویفر برای فرآیند Epitaxy در پردازش نیمه هادی است. این وسیله غیر قابل تعویض است که ویفر را تثبیت می کند و رشد یکنواخت لایه اپیتاکسیال را تضمین می کند. از مشاوره بیشتر خود خوش آمدید.

به عنوان یک سازنده حرفه ای CVD TAC Wafer Wafer Cocker و کارخانه در چین ، CVD Semiconductor CVD TAC Wafer Carrier یک ابزار حمل ویفر است که به ویژه برای محیط های با درجه حرارت بالا و فرسوده در ساخت نیمه هادی طراحی شده است. و CVD TAC Wafer Carrier دارای مقاومت مکانیکی بالایی ، مقاومت در برابر خوردگی عالی و پایداری حرارتی است و تضمین لازم را برای تولید دستگاه های نیمه هادی با کیفیت بالا فراهم می کند. سوالات بیشتر شما مورد استقبال قرار می گیرد.

نیمه هادی Vetek یک تولید کننده و کارخانه دارنده حرفه ای EPI ویفر در چین است. دارنده ویفر Epi یک دارنده ویفر برای فرآیند Epitaxy در پردازش نیمه هادی است. این یک ابزار کلیدی برای تثبیت ویفر و اطمینان از رشد یکنواخت لایه اپیتاکسیال است. این ماده به طور گسترده در تجهیزات اپیتاکس مانند MOCVD و LPCVD استفاده می شود. این یک وسیله غیر قابل تعویض در فرآیند Epitaxy است. از مشاوره بیشتر خود خوش آمدید.

حامل ویفر ماهواره ای Aixstron Vetek نیمه هادی Vetek یک حامل ویفر است که در تجهیزات Aixstron استفاده می شود ، که عمدتا در فرآیندهای MOCVD استفاده می شود ، و به ویژه برای فرآیندهای پردازش نیمه هادی با درجه بالا و با دقت بالا مناسب است. حامل می تواند پشتیبانی ویفر پایدار و رسوب فیلم یکنواخت را در طول رشد اپیتاکسیال MOCVD فراهم کند ، که برای فرآیند رسوب لایه ضروری است. از مشاوره بیشتر خود خوش آمدید.