سر دوش گرافیتی با روکش CVD

Veteksemicon CVD SIC پوشش گرافیت پوشش گرافیتی ، سطح مهندسی دقیق آن ، توزیع گاز یکنواخت را تضمین می کند ، که برای دستیابی به رسوب مداوم فیلم در سراسر ویفرها بسیار مهم است. درروکشنه تنها مقاومت در برابر سایش و مقاومت در برابر اکسیداسیون را تقویت می کند ، بلکه عمر خدمات را در شرایط سخت فرآیند نیز گسترش می دهد.

به طور گسترده در ساخت ویفر نیمه هادی ، اپیتاکس و رسوب فیلم نازک ، سر دوش گرافیتی با پوشش CVD SIC یک انتخاب ایده آل برای تولید کنندگان است که به دنبال اجزای فرآیند قابل اعتماد ، با خلوص و طولانی مدت هستند که تقاضای تولید نیمه هادی نسل بعدی را برآورده می کند.

Veteksemi CVD Silicon Carbide Showhead از بخار شیمیایی با خلوص بالا که کاربید سیلیکون سپرده شده ساخته شده است و برای فرآیندهای CVD و MOCVD در صنایع نیمه هادی ، LED و پیشرفته الکترونیک بهینه شده است. ثبات حرارتی برجسته آن ، مقاومت در برابر خوردگی و توزیع گاز یکنواخت ، عملکرد پایدار طولانی مدت را در محیط های با درجه حرارت بالا ، بسیار فاسد کننده ، به طور قابل توجهی بهبود تکرار و عملکرد فرایند تضمین می کند.

Veteksemicon CVD SIC پوشش گرافیتی سر دوش مزایای هسته

● خلوص و چگالی فوق العاده بلند

سر دوش گرافیتی با پوشش CVD SIC با استفاده از یک فرآیند CVD با خلوص بالا ساخته می شود و از خلوص مواد 99.9995 ٪ اطمینان حاصل می کند و هرگونه ناخالصی فلزی را از بین می برد. ساختار غیر متخلخل آن به طور موثری از نفوذ گاز و ریختن ذرات جلوگیری می کند ، و آن را برای فرایندهای بسته بندی نیمه هادی و فرآیندهای بسته بندی پیشرفته که نیاز به پاکیزگی بسیار بالایی دارند ، ایده آل می کند. در مقایسه با اجزای سنتی SIC یا گرافیت سنتی ، محصول ما حتی پس از عملکرد طولانی مدت دمای بالا ، کاهش فرکانس نگهداری و هزینه های تولید ، عملکرد پایدار را حفظ می کند.

● ثبات حرارتی عالی

در فرآیندهای CVD با درجه حرارت بالا و MOCVD ، مواد معمولی به دلیل استرس حرارتی مستعد تغییر شکل یا ترک خوردگی هستند. دوش CVD SIC در برابر دمای تا 1600 درجه سانتیگراد مقاومت می کند و دارای ضریب بسیار کمی از انبساط حرارتی است و اطمینان از پایداری ساختاری در حین افزایش درجه حرارت و کاهش می یابد. هدایت حرارتی یکنواخت آن بیشتر توزیع دما را در محفظه واکنش بهینه می کند ، به حداقل رساندن اختلاف میزان رسوب بین لبه ویفر و مرکز و بهبود یکنواختی فیلم.

● خوردگی ضد پلاسما

در طی فرآیندهای اچینگ یا رسوب ، گازهای بسیار خورنده (مانند CF₄، cl₂، و HBR) به سرعت کوارتز یا اجزای گرافیتی معمولی را از بین می برد. مواد CVD SIC مقاومت در برابر خوردگی استثنایی در محیط های پلاسما ، با طول عمر 3-5 برابر مواد معمولی نشان می دهد. آزمایش واقعی مشتری نشان داده است که حتی پس از 2000 ساعت کار مداوم ، تغییر اندازه منافذ در 1 ٪ پوند باقی می ماند ، و از توزیع جریان گاز پایدار طولانی مدت اطمینان می دهد.

● عمر طولانی و هزینه کم نگهداری

در حالی که اجزای گرافیتی سنتی به جایگزینی مکرر نیاز دارند ، سر دوش CVD با پوشش SIC عملکرد پایدار حتی در محیط های سخت را حفظ می کند. این هزینه های کلی را بیش از 40 ٪ کاهش می دهد. علاوه بر این ، استحکام مکانیکی بالای مواد از آسیب های تصادفی در هنگام کار یا نصب جلوگیری می کند.

● تأیید تأیید زنجیره زیست محیطی

Veteksemicon CVD سیلیکون کاربید Carbide Showhead 'تأیید زنجیره زیست محیطی مواد اولیه را به تولید پوشش می دهد ، صدور گواهینامه استاندارد بین المللی را پشت سر گذاشته است ، و دارای چندین فناوری ثبت شده برای اطمینان از قابلیت اطمینان و پایداری آن در نیمه هادی و زمینه های انرژی جدید است.

پارامترهای فنی

طرح	پارامتر
مادی	CVD SIC (گزینه های پوشش موجود)
دامنه	100mm-450mm (قابل تنظیم)
تحمل ضخامت	0.05 میلی متر
زبری سطح	20.2 میکرومتر
روند کاربردی	CVD/MOCVD/PECVD/ETCHING/EPITAXY

زمینه های اصلی برنامه

جهت کاربرد	سناریوی معمولی
تولید نیمه هادی	دستگاه های Silicon Epitaxy ، GAN/GAAS
الکترونیک قدرت	تولید ویفر اپیتاکسیال sic
رهبری منجر به	رسوب بستر یاقوت کبود MOCVD
تجهیزات تحقیقات علمی	سیستم رسوب فیلم نازک با دقت بالا

تأیید تأیید زنجیره زیست محیطی

Veteksemicon CVD سیلیکون کاربید Carbide Showhead 'تأیید زنجیره زیست محیطی مواد اولیه را به تولید پوشش می دهد ، صدور گواهینامه استاندارد بین المللی را پشت سر گذاشته است ، و دارای چندین فناوری ثبت شده برای اطمینان از قابلیت اطمینان و پایداری آن در نیمه هادی و زمینه های انرژی جدید است.

برای مشخصات فنی دقیق ، مقالات سفید یا تنظیمات آزمایش نمونه ، لطفاًبا تیم پشتیبانی فنی ما تماس بگیریدبرای کشف چگونگی Veteksemicon می تواند راندمان فرآیند شما را افزایش دهد.