کاربید تانتالوم متخلخل

وتک نیمه هادی کاربید متخلخل متخلخل (TAC) یک ماده سرامیکی با کارایی بالا است که ترکیب خواص تانتالوم و کربن است. ساختار متخلخل آن برای کاربردهای خاص در محیط های با درجه حرارت بالا و شدید بسیار مناسب است. TAC سختی ، پایداری حرارتی و مقاومت شیمیایی را ترکیب می کند و آن را به یک انتخاب مواد ایده آل در پردازش نیمه هادی تبدیل می کند.

کاربید متخلخل تانتالوم (TAC) از تانتالوم (TA) و کربن (C) تشکیل شده است که در آن تانتالوم یک پیوند شیمیایی قوی با اتم های کربن تشکیل می دهد و به این ماده دوام بسیار بالایی می دهد و مقاومت در برابر سایش را می دهد. ساختار متخلخل TAC متخلخل در طی فرآیند تولید مواد ایجاد می شود و تخلخل را می توان با توجه به نیازهای خاص کاربردی کنترل کرد. این محصول معمولاً توسط تولید می شودرسوب بخار شیمیایی (CVD)روش ، اطمینان از کنترل دقیق اندازه و توزیع منافذ آن.

ساختار مولکولی کاربید تانتالوم

وتک نیمه هادی متخلخل کاربید (TAC) دارای ویژگی های محصول زیر است

● تخلخل: ساختار متخلخل عملکردهای مختلفی را در سناریوهای کاربردی خاص ، از جمله انتشار گاز ، تصفیه یا اتلاف حرارت کنترل شده ، به آن می دهد.

point نقطه ذوب بالا: Tantalum Carbide دارای نقطه ذوب بسیار بالا در حدود 3،880 درجه سانتیگراد است که برای محیط های با درجه حرارت بسیار بالا مناسب است.

● سختی عالی: TAC متخلخل در مقیاس سختی Mohs ، شبیه به الماس ، سختی بسیار بالایی دارد. ، و می تواند در شرایط شدید در برابر سایش مکانیکی مقاومت کند.

stability ثبات حرارتی: مواد Tantalum Carbide (TAC) می توانند در محیط های با درجه حرارت بالا پایدار باشند و از ثبات حرارتی قوی برخوردار باشند و از عملکرد مداوم آن در محیط های درجه حرارت بالا اطمینان حاصل کنند.

ard هدایت حرارتی بالا: علیرغم تخلخل ، کاربید متخلخل تانتالوم هنوز هدایت حرارتی خوبی را حفظ می کند و از انتقال حرارت کارآمد اطمینان حاصل می کند.

ضریب انبساط حرارتی کم: ضریب انبساط حرارتی کم کاربید تانتالوم (TAC) به این ماده کمک می کند تا تحت نوسانات دما قابل توجهی پایدار بماند و تأثیر استرس حرارتی را کاهش دهد.

خصوصیات فیزیکی پوشش TAC

در ساخت نیمه هادی ، کاربید متخلخل تانتالوم (TAC) نقش کلیدی خاص زیر را ایفا می کندs

در فرآیندهای درجه حرارت بالا ماننداکیو CVD ، کاربید تانتالوم متخلخل نیمه هادی Vetek اغلب به عنوان یک پوشش محافظ برای تجهیزات پردازش استفاده می شود. این به دلیل مقاومت شدید در برابر خوردگی استپوشش TACو ثبات درجه حرارت بالا این خصوصیات اطمینان حاصل می کنند که به طور موثری از سطوح در معرض گازهای واکنشی یا دمای شدید محافظت می کند و از این طریق از واکنش طبیعی فرآیندهای درجه حرارت بالا اطمینان می یابد.

در فرآیندهای انتشار ، کاربید متخلخل تانتالوم می تواند به عنوان یک سد انتشار مؤثر برای جلوگیری از اختلاط مواد در فرآیندهای درجه حرارت بالا باشد. این ویژگی اغلب برای کنترل انتشار دوپانت ها در فرآیندهای مانند کاشت یون و کنترل خلوص ویفرهای نیمه هادی استفاده می شود.

ساختار متخلخل از کاربید تانتالوم متخلخل نیمه هادی Vetek برای محیط های پردازش نیمه هادی که نیاز به کنترل دقیق جریان گاز یا تصفیه دارند ، بسیار مناسب است. در این فرایند ، TAC متخلخل به طور عمده نقش تصفیه و توزیع گاز را ایفا می کند. عدم تحرک شیمیایی آن تضمین می کند که هیچ آلاینده ای در طی فرآیند تصفیه معرفی نمی شود. این به طور موثری خلوص محصول فرآوری شده را تضمین می کند.

پوشش کاربید Tantalum (TAC) در مقطع میکروسکوپی