حلقه کاربید Tantalum

حلقه کاربید Tantalum نیمه هادی Vetek (TAC) از گرافیت با کیفیت بالا به عنوان ماده اصلی استفاده می کند و به لطف ساختار منحصر به فرد آن ، قادر است شکل و خواص مکانیکی خود را در شرایط شدید کوره رشد کریستالی حفظ کند. مقاومت در برابر حرارت زیاد گرافیت به آن ثبات عالی در سراسرروند رشد کریستال.

لایه بیرونی حلقه TAC با a پوشیده شده استپوشش کاربید Tantalum، ماده ای که به دلیل سختی بسیار بالا ، نقطه ذوب بیش از 3880 درجه سانتیگراد و مقاومت عالی در برابر خوردگی شیمیایی شناخته شده است ، و آن را به ویژه برای محیط های عملیاتی با درجه حرارت بالا مناسب می کند. پوشش کاربید Tantalum مانع قوی برای جلوگیری از واکنش های شیمیایی خشونت آمیز و اطمینان از اینکه هسته گرافیت توسط گازهای کوره با درجه حرارت بالا خراب نمی شود ، فراهم می کند.

در طولرشد کریستال کاربید سیلیکون (SIC)، شرایط رشد پایدار و یکنواخت برای اطمینان از کریستال های با کیفیت بالا مهم است. حلقه پوشش کاربید Tantalum نقش مهمی در تنظیم جریان گاز و بهینه سازی توزیع دما در کوره دارد. به عنوان یک حلقه راهنمای گاز ، حلقه TAC توزیع یکنواخت انرژی گرما و گازهای واکنش را تضمین می کند و از رشد یکنواخت و پایداری کریستال های SIC اطمینان حاصل می کند.

علاوه بر این ، هدایت حرارتی بالای گرافیت همراه با اثر محافظتی از پوشش کاربید تانتالوم ، حلقه راهنمای TAC را قادر می سازد تا در محیط درجه حرارت بالا مورد نیاز برای رشد کریستال SIC باشد. استحکام ساختاری و ثبات بعدی آن برای حفظ شرایط در کوره بسیار مهم است که مستقیماً بر کیفیت کریستال های تولید شده تأثیر می گذارد. با کاهش نوسانات حرارتی و واکنشهای شیمیایی در کوره ، حلقه پوشش TAC به تولید کریستال هایی با خواص الکترونیکی عالی برای کاربردهای نیمه هادی با کارایی بالا کمک می کند.

حلقه کاربید Tantalum نیمه هادی Vetek یک مؤلفه اصلی استکوره های رشد کریستال کاربید سیلیکونو از دوام عالی ، پایداری حرارتی و مقاومت شیمیایی آن ایستادگی می کند. ترکیب منحصر به فرد آن از پوشش گرافیتی هسته و پوشش TAC به آن اجازه می دهد تا یکپارچگی و عملکرد ساختاری را در شرایط سخت حفظ کند. با کنترل دقیق دما و جریان گاز در کوره ، حلقه پوشش TAC شرایط لازم را برای تولید کریستال های SIC با کیفیت بالا فراهم می کند ، که برای تولید اجزای نیمه هادی برش بسیار مهم هستند.

پوشش کاربید Tantalum (TAC) در مقطع میکروسکوپی：