پوشش کاربید سیلیکون

VeTek Semiconductor به‌عنوان یکی از پیشروترین کارخانه‌های تولید ویفر در چین، پیشرفت مستمری در محصولات گیرنده ویفر داشته است و به اولین انتخاب برای بسیاری از تولیدکنندگان ویفر همپایی تبدیل شده است. گیره بشکه ای با پوشش SiC برای LPE PE2061S ارائه شده توسط VeTek Semiconductor برای ویفرهای LPE PE2061S 4 اینچی طراحی شده است. سوسپتور دارای یک پوشش کاربید سیلیکون بادوام است که عملکرد و دوام را در طول فرآیند LPE (اپیتاکسی فاز مایع) بهبود می بخشد. از درخواست شما خوش آمدید، ما مشتاقانه منتظر هستیم که شریک طولانی مدت شما شویم.

سر دوش گاز جامد SiC نقش عمده ای در یکنواخت شدن گاز در فرآیند CVD ایفا می کند و در نتیجه گرمایش یکنواخت زیرلایه را تضمین می کند. VeTek Semiconductor سال‌هاست که عمیقاً در زمینه دستگاه‌های SiC جامد درگیر بوده و قادر است سر دوش گاز جامد SiC را به مشتریان ارائه دهد. مهم نیست نیازهای شما چیست، ما مشتاقانه منتظر درخواست شما هستیم.

نیمه هادی Vetek همواره متعهد به تحقیق و توسعه و تولید مواد نیمه هادی پیشرفته بوده است. امروزه ، نیمه هادی Vetek پیشرفت زیادی در فرآیند رسوب بخار شیمیایی محصولات حلقه SIC Edge Sick Edge Edge داشته است و می تواند حلقه های لبه جامد جامد بسیار سفارشی را در اختیار مشتریان قرار دهد. حلقه های لبه SIC جامد یکنواختی بهتر اچ و موقعیت ویفر دقیق را هنگام استفاده از یک چاک الکترواستاتیک فراهم می کند و از نتایج اچینگ سازگار و قابل اعتماد اطمینان می دهد. مشتاقانه منتظر پرسش و تبدیل شدن به شرکای بلند مدت یکدیگر هستیم.

حلقه فوکوس اچینگ Solid SiC یکی از اجزای اصلی فرآیند اچ ویفر است که در تثبیت ویفر، فوکوس پلاسما و بهبود یکنواختی اچ ویفر نقش دارد. VeTek Semiconductor به عنوان پیشروترین تولید کننده حلقه فوکوس SiC در چین، دارای فناوری پیشرفته و فرآیند بالغ است و حلقه فوکوس اچینگ جامد SiC را تولید می کند که به طور کامل نیازهای مشتریان نهایی را مطابق با نیاز مشتری برآورده می کند. ما مشتاقانه منتظر درخواست شما و تبدیل شدن به شرکای طولانی مدت یکدیگر هستیم.