فناوری پاشش حرارتی نیمه هادی

فناوری پاشش حرارتی نیمه هادی یک فرآیند پیشرفته است که مواد را در حالت مذاب یا نیمه مولدن بر روی سطح یک بستر اسپری می کند تا یک پوشش را تشکیل دهد. این فناوری به طور گسترده ای در زمینه تولید نیمه هادی مورد استفاده قرار می گیرد ، که عمدتاً برای ایجاد پوشش هایی با عملکردهای خاص روی سطح بستر مانند هدایت ، عایق ، مقاومت به خوردگی و مقاومت اکسیداسیون استفاده می شود. مزایای اصلی فناوری پاشش حرارتی شامل راندمان بالا ، ضخامت پوشش قابل کنترل و چسبندگی پوشش مناسب است که باعث می شود آن در فرآیند تولید نیمه هادی که نیاز به دقت و قابلیت اطمینان بالایی دارد ، از اهمیت ویژه ای برخوردار شود.

کاربرد فناوری پاشش حرارتی در نیمه هادی ها

حکاکی پرتو پلاسما (اچ خشک)

معمولاً به استفاده از تخلیه درخشان برای تولید ذرات فعال پلاسما حاوی ذرات باردار مانند پلاسما و الکترون ها و اتم ها و مولکول های شیمیایی بسیار فعال خنثی و رادیکال های آزاد اطلاق می شود که به قسمتی که قرار است حکاکی شود منتشر می شود، با مواد حکاکی شده واکنش می دهد و فرار تشکیل می دهد. محصولات حذف می شوند و در نتیجه فناوری اچینگ انتقال الگو تکمیل می شود. این یک فرآیند غیرقابل جایگزین برای تحقق انتقال با وفاداری بالا الگوهای ظریف از الگوهای فوتولیتوگرافی به ویفرها در تولید مدارهای مجتمع در مقیاس بزرگ است.

تعداد زیادی رادیکال آزاد فعال مانند Cl و F تولید خواهد شد. هنگامی که دستگاه های نیمه هادی را حکاکی می کنند، سطوح داخلی سایر قطعات تجهیزات، از جمله آلیاژهای آلومینیوم و قطعات ساختاری سرامیکی را خورده می کنند. این فرسایش قوی تعداد زیادی ذرات را تولید می کند که نه تنها نیاز به تعمیر و نگهداری مکرر تجهیزات تولیدی دارد، بلکه باعث خرابی محفظه فرآیند اچ و آسیب به دستگاه در موارد شدید می شود.

Y2O3 ماده ای با خاصیت شیمیایی و حرارتی بسیار پایدار است. نقطه ذوب آن بسیار بالاتر از 2400 است. این می تواند در یک محیط خورنده قوی پایدار بماند. مقاومت آن در برابر بمباران پلاسما می تواند عمر خدمات قطعات را تا حد زیادی گسترش داده و ذرات موجود در محفظه اچ را کاهش دهد.

راه حل اصلی، اسپری کردن پوشش Y2O3 با خلوص بالا برای محافظت از محفظه اچ و سایر اجزای کلیدی است.