حامل پوشش CVD TAC

نیمه هادی Vetek یک رهبر حرفه ای است. شرکت حامل پوشش CVD TAC CVD ، Epitaxy Susicor ،پشتیبانی از گرافیت پوشش داده شده TACسازنده

از طریق فرآیند مداوم و تحقیقات نوآوری در مواد ، حامل پوشش CVD TAC CVD نیمه هادی Vetek نقش بسیار مهمی در فرآیند اپیتاکسیال بازی می کند ، عمدتاً از جمله جنبه های زیر:

حفاظت از بستر: حامل پوشش CVD TAC پایداری شیمیایی عالی و پایداری حرارتی را فراهم می کند ، به طور موثری مانع از درجه حرارت بالا و گازهای خورنده از فرسایش بستر و دیواره داخلی راکتور می شود و از خلوص و پایداری محیط فرآیند اطمینان می دهد.

یکنواختی حرارتی: همراه با هدایت حرارتی بالا از حامل پوشش CVD TAC ، یکنواختی توزیع دما را در راکتور تضمین می کند ، کیفیت کریستال و یکنواختی ضخامت لایه اپیتاکسیال را بهینه می کند و عملکرد عملکرد محصول نهایی را افزایش می دهد.

کنترل آلودگی ذرات: از آنجا که حامل های پوشش داده شده با CVD دارای میزان تولید ذرات بسیار کمی هستند ، خصوصیات سطح صاف به طور قابل توجهی خطر آلودگی ذرات را کاهش می دهد ، در نتیجه باعث بهبود خلوص و عملکرد در طول رشد اپیتاکسی می شود.

عمر تجهیزات طولانی: همراه با مقاومت عالی در برابر سایش و مقاومت در برابر خوردگی حامل پوشش CVD TAC ، عمر خدمات اجزای محفظه واکنش را به طور قابل توجهی گسترش می دهد ، هزینه های خرابی و نگهداری تجهیزات را کاهش می دهد و راندمان تولید را بهبود می بخشد.

با ترکیب ویژگی های فوق ، حامل پوشش CVD TAC CVD نیمه هادی Vetek نه تنها قابلیت اطمینان فرآیند و کیفیت محصول را در فرآیند رشد اپیتاکسیال بهبود می بخشد ، بلکه یک راه حل مقرون به صرفه برای تولید نیمه هادی نیز فراهم می کند.

پوشش کاربید Tantalum در مقطع میکروسکوپی:

خصوصیات بدنی حامل پوشش CVD TAC:

فروشگاه تولید پوشش CVD نیمه هادی Vetek: