پوشش CVD SiC گیرنده اپیتاکسی

محافظ اپیتاکسی پوشش CVD SiC Veteksemicon یک ابزار مهندسی دقیق است که برای پردازش ویفر نیمه هادی طراحی شده است. این محافظ اپیتاکسی پوشش SiC نقشی حیاتی در ترویج رشد لایه‌های نازک، لایه‌های لایه‌ای و سایر پوشش‌ها دارد و می‌تواند به طور دقیق دما و خواص مواد را کنترل کند. از سوالات بیشتر خود استقبال کنید.

اساسیخواص فیزیکی پوشش CVD SiC:

مزایای محصول اپیتاکسی روکش CVD SiC:

● رسوب گذاری دقیق: Susceptor یک بستر گرافیت بسیار رسانای حرارتی را با یک پوشش SiC ترکیب می کند تا یک پلت فرم پشتیبانی پایدار برای زیرلایه ها (مانند یاقوت کبود، SiC یا GaN) فراهم کند. رسانایی حرارتی بالای آن (مانند SiC حدود 120 W/m·K) می تواند به سرعت گرما را انتقال دهد و توزیع دمای یکنواخت را بر روی سطح بستر تضمین کند، در نتیجه رشد با کیفیت بالای لایه اپیتاکسیال را افزایش می دهد.

● کاهش آلودگیپوشش SiC تهیه شده توسط فرآیند CVD دارای خلوص بسیار بالا (محتوای ناخالصی کمتر از 5 پی پی ام) است و در برابر گازهای خورنده (مانند Cl2، NH3) بسیار مقاوم است و از آلودگی لایه اپیتاکسیال جلوگیری می کند.

● ماندگاری: سختی بالای SiC (سختی Mohs 9.5) و مقاومت در برابر سایش باعث کاهش تلفات مکانیکی پایه در هنگام استفاده مکرر می شود و برای فرآیندهای تولید نیمه هادی با فرکانس بالا مناسب است.

VeTeksemicon متعهد به ارائه محصولات با کیفیت بالا و قیمت های رقابتی است. ما مشتاقانه منتظریم که شریک بلندمدت شما در چین باشیم.

نیمه هادی VeTek فروشگاه های محصولات: