CVD SIC BAFFLE

به عنوان تولید کننده حرفه ای ، ما می خواهیم کیفیت بالایی را برای شما فراهم کنیمCVD SIC BAFFLE.

از طریق فرآیند مداوم و توسعه نوآوری مادی ،آن نیمه هادی است'sCVD SIC BAFFLEویژگی های منحصر به فردی از ثبات دمای بالا ، مقاومت در برابر خوردگی ، سختی زیاد و مقاومت در برابر سایش دارد. این خصوصیات منحصر به فرد تعیین می کند که بافل پوشش CVD SIC نقش مهمی در فرآیند اپیتاکسیال ایفا می کند ، و نقش آن عمدتاً جنبه های زیر را شامل می شود:

توزیع یکنواخت جریان هوا: طراحی مبتکرانه بافل پوشش CVD SIC می تواند به توزیع یکنواخت جریان هوا در طی فرآیند Epitaxy برسد. جریان هوای یکنواخت برای رشد یکنواخت و بهبود کیفیت مواد ضروری است. این محصول می تواند به طور موثری جریان هوا را راهنمایی کند ، از جریان بیش از حد یا ضعیف از جریان هوای محلی جلوگیری کند و از یکنواختی مواد اپیتاکسیال اطمینان حاصل کند.

فرآیند ePitaxy را کنترل کنید: موقعیت و طراحی بافل پوشش CVD SIC می تواند به طور دقیق جهت جریان و سرعت جریان هوا را در طی فرآیند epitaxy کنترل کند. با تنظیم طرح و شکل آن ، می توان کنترل دقیق جریان هوا را بدست آورد ، در نتیجه شرایط اپیتاکسی و بهبود عملکرد و کیفیت اپیتاکسی را بهینه می کند.

کاهش از دست دادن مواد: تنظیم معقول Baffle پوشش CVD SIC می تواند از دست دادن مواد در طی فرآیند اپیتاکس کاهش یابد. توزیع جریان هوا یکنواخت می تواند استرس حرارتی ناشی از گرمایش ناهموار را کاهش دهد ، خطر شکستگی و آسیب مواد را کاهش داده و عمر خدمات مواد اپیتاکسی را افزایش دهد.

بهره وری اپیتاکس را بهبود بخشید: طراحی بافل پوشش CVD SIC می تواند راندمان انتقال جریان هوا را بهینه کرده و کارایی و پایداری فرآیند اپیتاکس را بهبود بخشد. با استفاده از این محصول ، می توان عملکرد تجهیزات اپیتاکسیال را به حداکثر برساند ، می توان راندمان تولید را بهبود بخشید و مصرف انرژی کاهش می یابد.

خصوصیات بدنی اساسی ازCVD SIC BAFFLE：

فروشگاه تولید پوشش CVD SIC:

نمای کلی زنجیره صنعت Epitaxy تراشه نیمه هادی: