گیرنده گرافیت با پوشش TaC

خوش آمدید به کارخانه نیمه هادی VeTek ما برای خرید جدیدترین گیره گرافیتی با روکش TaC با فروش، قیمت پایین و با کیفیت بالا بیایید. ما مشتاقانه منتظر همکاری با شما هستیم.

نقطه ذوب مواد سرامیکی کاربید تانتالم تا 3880 ℃، نقطه ذوب بالا و پایداری شیمیایی خوب ترکیب است، محیط دمای بالا آن هنوز هم می تواند عملکرد پایدار را حفظ کند، علاوه بر این، دارای مقاومت در برابر درجه حرارت بالا، مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی، مواد شیمیایی خوب است. و سازگاری مکانیکی با مواد کربنی و سایر مشخصات، آن را به یک ماده پوشش محافظ بستر گرافیت ایده آل تبدیل می کند. پوشش کاربید تانتالیوم می تواند به طور موثر از اجزای گرافیت در برابر نفوذ آمونیاک داغ، هیدروژن و بخار سیلیکون و فلز مذاب در محیط استفاده خشن محافظت کند، به طور قابل توجهی عمر مفید اجزای گرافیت را افزایش دهد و از مهاجرت ناخالصی ها در گرافیت جلوگیری کند. تضمین کیفیت اپیتاکسی و رشد کریستال. عمدتاً در فرآیند سرامیک مرطوب استفاده می شود.

رسوب بخار شیمیایی (CVD) بالغ ترین و بهینه ترین روش آماده سازی برای پوشش کاربید تانتالوم بر روی سطح گرافیت است.

روش پوشش CVD TaC برای گیرنده گرافیت با پوشش TaC:

در فرآیند پوشش دهی به ترتیب از TaCl5 و پروپیلن به عنوان منبع کربن و منبع تانتالیوم و از آرگون به عنوان گاز حامل برای آوردن بخار پنتاکلرید تانتالیوم به محفظه واکنش پس از تبدیل به گاز در دمای بالا استفاده می شود. تحت دما و فشار هدف، بخار ماده پیش ساز بر روی سطح قطعه گرافیت جذب می شود و یک سری واکنش های شیمیایی پیچیده مانند تجزیه و ترکیب منبع کربن و منبع تانتالیوم رخ می دهد. در عین حال، یک سری واکنش های سطحی مانند انتشار پیش ساز و دفع محصولات جانبی نیز دخیل هستند. در نهایت، یک لایه محافظ متراکم بر روی سطح قطعه گرافیتی تشکیل می‌شود که از پایداری قطعه گرافیتی در شرایط محیطی شدید محافظت می‌کند. سناریوهای کاربرد مواد گرافیت به طور قابل توجهی گسترش یافته است.

پارامتر محصول SESPINCE GRAPHITE پوشش داده شده TAC:

فروشگاه های تولید:

مروری بر زنجیره صنعت اپیتاکسی تراشه های نیمه هادی: