نمد نرم فیبر کربنی مبتنی بر PAN

1. عوامل اصلی عملکرد

• خلوص بالا:نمرات با خلوص بالا با محتوای خاکستر کمتر از 20 ppm نگهداری می شود تا از آلودگی در طول رشد نیمه هادی های حساس جلوگیری شود.
• بازده حرارتی:رسانایی حرارتی پایین 0.1-0.13 W/(m*k) در 25 درجه سانتی گراد گرادیان دما را پایدار نگه می دارد و اتلاف انرژی را کاهش می دهد.
• مقاومت در برابر حرارت:پایداری قابل اعتماد حتی در محیط های بیش از 2200 درجه سانتیگراد.
• یکپارچگی ساختاری:فرآیند تشکیل جت هوا الیاف را یکنواخت نگه می دارد. این از نقاط داغ و خستگی مواد که اغلب چرخه های رشد طولانی را مختل می کنند، جلوگیری می کند.  

3. برنامه های کاربردی

تولید نیمه هادی:این یک لایه عایق کلیدی برای تنظیم کوره های رشد کریستال سیلیکون و SiC است.

ارتباطات فیبر نوری:ایده آل برای استفاده در کوره های پخت، برج های کشش و تولید میله های با دمای بالا.

تحقیقات پیشرفته:مورد اعتماد در کوره های رشد یاقوت کبود و سیستم های تخصصی تصفیه در دمای بالا.

4. چرا VETEK را انتخاب کنید؟

خروجی سریعتر:با استفاده از مواد با حرارت کم، چرخه حرارتی را بسیار سریع‌تر کرده‌ایم - این به طور مستقیم توان روزانه شما را افزایش می‌دهد.

محافظ قابل اعتماد:تمرکز تولید ما بر کنترل دقیق تراکم فیبر است. ما نقاط ضعف را از بین می‌بریم تا از کل محفظه محافظ مطمئنی برخوردار شوید.

استانداردهای HPSI:برای فرآیندهای HPSI و RF، استانداردهای خلوص بالا ما به طور خاص برای رسیدگی به آن الزامات حساس و مقاومت بالا طراحی شده‌اند.
نصب ساده:از آنجایی که این ماده به طور طبیعی انعطاف پذیر است، می توان آن را با دقت برش داد تا با هندسه های پیچیده مطابقت داشته باشد، که واقعاً به ساده سازی کل فرآیند نصب کمک می کند.