قایق ویفری با پوشش CVD SiC با خلوص بالا

1. عوامل اصلی عملکرد؟

• خلوص در سطح 7N:ما استاندارد خلوص 99.99999٪ (7N) را حفظ می کنیم. این غیرقابل مذاکره برای جلوگیری از مهاجرت آلاینده های فلزی به داخل ویفر در طی مراحل طولانی درایو یا اکسیداسیون است.
• مهر و موم CVD (50-300μm):ما فقط سطح را "نقاشی" نمی کنیم. لایه 50-300 میکرومتری CVD SiC ما یک آب بندی کامل روی بستر ایجاد می کند. این امر تخلخل را از بین می برد، به این معنی که قایق حتی پس از قرار گرفتن مکرر در معرض گازهای واکنشی یا تمیز کردن تهاجمی SPM/DHF، مواد شیمیایی را به دام نمی اندازد یا ذرات را نمی ریزد.
• سختی حرارتی:انبساط حرارتی کم طبیعی سیلیکون کاربید این قایق ها را صاف نگه می دارد. آنها در طول بازپخت حرارتی سریع (RTA) نمی‌پیچند و نمی‌پیچند و مطمئن می‌شوند که بازوی ربات همیشه بدون گیر کردن به شکاف سمت راست برخورد می‌کند.
• بازدهی پایدار:سطح برای چسبندگی کم محصول جانبی مهندسی شده است. تجمع کمتر به این معنی است که ذرات کمتری به ویفرهای شما برخورد می کنند و دویدن بیشتر بین چرخه های تمیز کردن نیمکت مرطوب است.
• هندسه سفارشی:هر فابر تنظیمات مخصوص به خود را دارد. ما آن‌ها را بر اساس نقشه‌های Pitch و Slot خاص شما ماشین می‌کنیم، چه در حال اجرای یک کوره افقی یا یک خط خودکار 300 میلی‌متری عمودی باشید.

2. سازگاری فرآیند

• جو:مقاوم در برابر TMGa، AsH3، و محیط های O2 با غلظت بالا.
• محدوده حرارتی:عملکرد طولانی مدت پایدار تا 1400 درجه سانتیگراد.
• مواد:به طور خاص برای فرآیندهای اکسیداسیون و انتشار ویفرهای منطقی، توان و آنالوگ مهندسی شده است.