گیرنده گرافیتی با پوشش سی سی سی وی دی برای حامل ویفر

1. مزایای محصول

• مواد با خلوص بالا:مواد گرافیت نیمه هادی و ساختار پوشش متراکم SiC خطرات آلودگی را به حداقل می رساند و قابلیت اطمینان گیرنده گرافیت پوشش داده شده CVD SiC را بهبود می بخشد.
• یکنواختی حرارتی عالی:ساختار گرافیت بهینه و پوشش SiC انتقال حرارت پایدار و کنترل دمای ویفر یکنواخت را فراهم می کند.
• مقاومت شیمیایی برتر:پوشش متراکم SiC مقاومت قوی در برابر گازهای فرآیند و محیط های خورنده ارائه می دهد.
• عمر طولانی خدمات:سختی بالا و مقاومت در برابر سایش دوام را در شرایط اپیتاکسی در دمای بالا بهبود می بخشد.
• تولید ذرات کم:سطح متراکم CVD SiC رهاسازی ذرات را کاهش می دهد و قابلیت اطمینان فرآیند ویفر را بهبود می بخشد.
• قابلیت طراحی سفارشی:در اندازه ها، ساختارها و پیکربندی های مختلف با توجه به نیاز تجهیزات موجود است.

2. مشخصات فنی

3. برنامه های کاربردی

• فرآیند اپیتاکسی SiC:گیرنده گرافیت به عنوان یک حامل ویفر در تجهیزات اپیتاکسی SiC استفاده می شود و از بسترهای SiC در طول رشد اپیتاکسی در دمای بالا پشتیبانی می کند.
• فرآیند اپیتاکسی سیلیکون:در راکتورهای اپیتاکسیال سیلیکونی برای حمایت از ویفرها و حفظ شرایط حرارتی پایدار استفاده می شود.
• MOCVD Epitaxy:گیرنده های گرافیت VETEK برای MOCVD، اپیتاکسی LED، اپیتاکسی GaN، اپیتاکسی سیلیکون و سایر فرآیندهای تولید نیمه هادی که نیاز به یکنواختی حرارتی عالی و پایداری شیمیایی دارند، مناسب هستند.
• تجهیزات ساخت نیمه هادی:سازگار با پلتفرم های مختلف اپیتاکسی، از جمله کوره های افقی LPE، Aixtron، NuFlare و تجهیزات نیمه هادی مرتبط.

4. چرا VETEK را انتخاب کنید؟

VETEK راه حل های سفارشی گیرنده گرافیت با پوشش CVD SiC را ارائه می دهد که تصفیه گرافیت، ماشینکاری دقیق، پوشش CVD و قابلیت های بازرسی را یکپارچه می کند. محصولات گیره گرافیت نیمه هادی ما دارای خلوص بالا، ضخامت پوشش یکنواخت، عملکرد حرارتی عالی، و عمر طولانی برای کاربردهای مورد نیاز حامل ویفر هستند.