TAC پوشش ویفر ویفر

VETEK نیمه هادی Vetek TAC SoSejector یک مؤلفه اصلی است که در آن استفاده می شودرسوب بخار شیمیایی فلزی و ارگانیک (MOCVD)راکتور برایفرآیندهای نیمه هادی Epitaxial (EPI)بشر این پایه گرد تخصصی از گرافیت با کیفیت بالا ساخته شده است و با لایه ای از کاربید Tantalum (TAC) پوشش داده می شود ، که به دلیل خاصیت حرارتی و شیمیایی استثنایی آن مشهور است.

عملکرد اصلی پوشش TAC بهبود عملکرد و دوام مستعد ویفر در شرایط سخت تولید نیمه هادی است. Tantalum Carbide به دلیل سختی ، نقطه ذوب بالا و مقاومت در برابر سایش بسیار مشهور است و آن را به لایه محافظ ایده آل تبدیل می کند. این پوشش پایه گرافیت زیرین را از واکنشهای شیمیایی خورنده و فشارهای مکانیکی که در درون رخ می دهد ، محافظت می کندراکتورهای MOCVD، گسترش طول عمر تجهیزات و بهبود قابلیت اطمینان.

در طول رشد اپیتاکسی مواد نیمه هادی ، ویفر پوشش داده شده TAC با اطمینان از رسوب دقیق فیلم نقش اساسی را ایفا می کند. مقاومت آن در برابر درجه حرارت بالا و محیط های شیمیایی سخت برای تولید دقیق دستگاه های نیمه هادی بسیار مهم است و این تجهیزات را قادر می سازد تا در شرایط فرآیند خواستار پایدار عمل کنند.

ترکیبی از aهسته گرافیتوتپوشش TACتوزیع گرمای یکنواخت را در سراسر حساس تضمین می کند ، که برای بهبود تکرارپذیری و کیفیت لایه های نیمه هادی رشد یافته در طی فرآیند MOCVD ضروری است. این طراحی پیشرفته مواد نه تنها دوام را فراهم می کند بلکه خواسته های دقیق تولید نیمه هادی مدرن را برای اجزای الکترونیکی با کارایی بالا برآورده می کند.

به عنوان یک تأمین کننده پیشرو و تولید کننده مستعد کننده ویفر تحت پوشش TAC ، نیمه هادی Vetek متعهد به ارائه راه حل های فنی با کیفیت بالا برای صنعت نیمه هادی است. ما مشتاقانه منتظر هستیم تا به شریک قابل اعتماد شما در چین تبدیل شویم و محصولات قابل اعتماد و سفارشی را ارائه دهیم.

Vetek نیمه هادی Vetek TAC فروشگاه های مخرب ویفر: