پوشش CVD TAC

پوشش CVD TaC (پوشش کاربید تانتالم با رسوب بخار شیمیایی) یک محصول پوششی است که عمدتا از کاربید تانتالم (TaC) تشکیل شده است. پوشش TaC دارای سختی بسیار بالا، مقاومت در برابر سایش و مقاومت در برابر دمای بالا است که آن را به گزینه ای ایده آل برای محافظت از اجزای کلیدی تجهیزات و بهبود قابلیت اطمینان فرآیند تبدیل می کند. این یک ماده ضروری در پردازش نیمه هادی است.

محصولات پوشش CVD TAC معمولاً در محفظه های واکنش ، حامل های ویفر و تجهیزات اچینگ استفاده می شود و نقش های اصلی زیر را در آنها بازی می کنند.

پوشش CVD TAC اغلب برای اجزای داخلی اتاقهای واکنش مانند بسترها ، پانل های دیواری و عناصر گرمایش استفاده می شود. همراه با مقاومت عالی درجه حرارت بالا ، می تواند به طور مؤثر در برابر فرسایش دمای بالا ، گازهای خورنده و پلاسما مقاومت کند و از این طریق عمر خدمات تجهیزات را به طور مؤثر گسترش داده و از ثبات فرآیند و خلوص تولید محصول اطمینان حاصل کند.

علاوه بر این، حامل های ویفر با پوشش TaC (مانند قایق های کوارتز، فیکسچرها و غیره) نیز دارای مقاومت حرارتی عالی و مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی هستند. حامل ویفر می تواند پشتیبانی قابل اعتمادی را برای ویفر در دمای بالا فراهم کند، از آلودگی و تغییر شکل ویفر جلوگیری کند و در نتیجه عملکرد کلی تراشه را بهبود بخشد.

علاوه بر این، پوشش TaC نیمه هادی VeTek به طور گسترده ای در تجهیزات مختلف اچینگ و رسوب لایه نازک مانند اچرهای پلاسما، سیستم های رسوب بخار شیمیایی و غیره استفاده می شود. در این سیستم های پردازش، پوشش CVD TAC می تواند در برابر بمباران یونی با انرژی بالا و واکنش های شیمیایی قوی مقاومت کند. ، از این طریق از دقت و تکرارپذیری فرآیند اطمینان حاصل می شود.

هرچه نیازهای خاص شما باشد ، ما بهترین راه حل را برای نیازهای پوشش CVD TAC شما مطابقت خواهیم داد و در هر زمان منتظر مشاوره شما هستیم.

فروشگاه های محصولات پوشش نیمه هادی CVD TAC VeTek:

مروری بر زنجیره صنعت اپیتاکسی تراشه های نیمه هادی: