اخبار

در این مقاله ویژگی های محصول پوشش CVD TAC ، فرآیند تهیه پوشش CVD TAC با استفاده از روش CVD و روش اصلی تشخیص مورفولوژی سطح از پوشش CVD TAC تهیه شده است.

در این مقاله ویژگی های محصول پوشش TAC ، فرآیند خاص تهیه محصولات پوشش TAC با استفاده از فناوری CVD ، معرفی محبوب ترین پوشش TAC Veteksemicon ، و به طور خلاصه دلایل انتخاب Veteksemicon را معرفی می کند.

در این مقاله به دلایلی که پوشش SIC یک ماده اصلی اصلی برای رشد اپیتاکسیال SIC است ، می پردازد و بر مزایای خاص پوشش SIC در صنعت نیمه هادی متمرکز می شود.