اخبار

در این مقاله به دلایلی که پوشش SIC یک ماده اصلی اصلی برای رشد اپیتاکسیال SIC است ، می پردازد و بر مزایای خاص پوشش SIC در صنعت نیمه هادی متمرکز می شود.

نانومواد کاربید سیلیکون (SIC) موادی با حداقل یک بعد در مقیاس نانومتر (1-100 نیوتن متر) هستند. این مواد می توانند صفر ، یک ، دو یا سه بعدی باشند و کاربردهای متنوعی دارند.

CVD SIC یک ماده کاربید سیلیکون با خلوص بالا است که توسط رسوب بخار شیمیایی تولید می شود. این ماده به طور عمده برای اجزای مختلف و پوشش در تجهیزات پردازش نیمه هادی استفاده می شود. محتوای زیر مقدمه ای برای طبقه بندی محصول و عملکردهای اصلی CVD SIC است