اخبار

اخبار صنعت

اصول و فناوری پوشش رسوب فیزیکی بخار (PVD) (2/2) - VeTek Semiconductor24 2024-09

اصول و فناوری پوشش رسوب فیزیکی بخار (PVD) (2/2) - VeTek Semiconductor

تبخیر پرتوی الکترونی یک روش پوشش بسیار کارآمد و پرکاربرد در مقایسه با گرمایش مقاومتی است که ماده تبخیر را با پرتو الکترونی گرم می‌کند و باعث تبخیر و متراکم شدن آن به یک لایه نازک می‌شود.
اصول و فناوری پوشش رسوب بخار فیزیکی (1/2) - نیمه هادی Vetek24 2024-09

اصول و فناوری پوشش رسوب بخار فیزیکی (1/2) - نیمه هادی Vetek

پوشش خلاء شامل تبخیر مواد فیلم ، حمل و نقل خلاء و رشد فیلم نازک است. با توجه به روشهای مختلف تبخیر مواد فیلم و فرآیندهای حمل و نقل ، پوشش خلاء را می توان به دو دسته تقسیم کرد: PVD و CVD.
گرافیت متخلخل چیست؟ - نیمه هادی وتک23 2024-09

گرافیت متخلخل چیست؟ - نیمه هادی وتک

در این مقاله پارامترهای فیزیکی و ویژگی های محصول گرافیت متخلخل نیمه هادی Vetek و همچنین کاربردهای خاص آن در پردازش نیمه هادی شرح داده شده است.
تفاوت بین پوشش های کاربید سیلیکون و تانتالوم کاربید چیست؟19 2024-09

تفاوت بین پوشش های کاربید سیلیکون و تانتالوم کاربید چیست؟

در این مقاله ویژگی های محصول و سناریوهای کاربردی پوشش کاربید Tantalum و پوشش کاربید سیلیکون از دیدگاه های مختلف مورد بررسی قرار گرفته است.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept